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公开(公告)号：CN114929621B
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202180008111.5
申请日：2021-02-15
Applicant: 日本瑞翁株式会社
IPC: C01B32/162 , C01B32/164
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够高效地生产高品质的碳纳米管集合体的碳纳米管集合体的制造方法。本发明涉及一种使碳纳米管集合体在表面具有催化剂的基材上生长的制造方法。在该制造方法中，分别在形成单元和生长单元中使用运送单元连续地运送基材，所述形成单元进行使基材上的催化剂成为还原状态的形成工序，所述生长单元进行使碳纳米管集合体生长的生长工序，所述运送单元通过螺杆旋转来运送基材。而且，在实施形成工序和生长工序时，在防止这些工序中的气体环境相互混入的同时实施这两个工序。
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公开(公告)号：CN102471065A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080028714.3
申请日：2010-06-29
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
IPC: C01B31/02
CPC classification number: C01B31/024 , B01J15/005 , B01J19/0006 , B01J19/0073 , B01J19/22 , B01J2219/00159 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/164 , C01B2202/08 , C23C16/0218 , C23C16/26 , C23C16/4408 , C23C16/4412 , C23C16/45502 , Y02P20/149
Abstract: 本发明提供一种取向CNT集合体的连续制造装置，其具有防止生长炉(3a)外的气体混入到生长炉(3a)内的气体中的气体混入防止机构(12、13)，所述气体混入防止机构(12、13)具有密封气体喷射部(12b、13b)和排气部(12a、13a)，所述密封气体喷射部(12b、13b)沿着生长炉(3a)的装入催化剂基板(10)的口及取出催化剂基板(10)的口的开口面喷射密封气体；所述排气部(12a、13a)以所述密封气体不从该口进入所述生长炉(3a)中的方式抽吸所述密封气体并排出到制造装置(100)的外部，由此，可一边连续地输送负载有催化剂的基体材料一边制造取向碳纳米管集合体，并且，该制造装置能够防止大气混入，且能够将原料气体和/或催化剂活化物质在基体材料上的浓度分布、流速分布均匀地控制在适合CNT制造的范围内，并且尽可能不扰乱生长炉内的气流。
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公开(公告)号：CN110312575A
公开(公告)日：2019-10-08
申请号：CN201880011434.8
申请日：2018-02-16
IPC: B01J37/02 , B01J23/745 , B01J37/04 , C01B32/162
Abstract: 本发明提供一种催化剂附着体制造方法，包括：附着工序，在具有多孔板的容器内配置含有催化剂原料和/或催化剂载体原料以及对象颗粒的混合液，使催化剂和/或催化剂载体附着于对象颗粒的表面，从而获得附着处理颗粒；剩余液去除工序，经由多孔板将含有未附着于附着处理颗粒的剩余成分的剩余液的至少一部分从容器内去除，并在多孔板上形成附着处理颗粒的填充层；以及干燥工序，在容器内干燥填充层。
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公开(公告)号：CN110248732A
公开(公告)日：2019-09-17
申请号：CN201880010521.1
申请日：2018-02-16
IPC: B01J37/02 , B01J23/745 , B01J37/04 , B01J37/16 , B01J37/18 , B01J38/00 , B82Y40/00 , C01B32/15 , C01B32/162
Abstract: 一种担载催化剂的制造方法，其特征在于，包含工序A，在上述工序A中，使含有催化剂原料和催化剂载体原料的混合溶液与表面具有催化剂层的支承体接触，从而在上述支承体中的具有催化剂层的表面的至少一部分上形成具有催化剂成分和催化剂载体成分的混合层。进而，该担载催化剂的制造方法优选在工序A之后进一步包含使催化剂成分偏析在混合层的表层部的工序B。
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公开(公告)号：CN103562131A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201280024785.5
申请日：2012-05-30
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
CPC classification number: C01B31/0226 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/162 , C01B32/168 , C01B2202/08 , C23C16/54
Abstract: 本发明提供一种取向碳纳米管集合体的制造装置，其具备：生长单元(3)，该生长单元(3)包含使催化剂的周围环境成为原料气体环境，同时对催化剂及原料气体中的至少一者进行加热从而使取向CNT集合体生长的生长炉(3a)；输送单元(6)，其将取向CNT集合体制造用基板(10)从生长炉(3a)中输送到外部，并且还具备加热部(13c)，该加热部(13c)从生长炉(3a)外对从生长炉(3a)输出取向CNT集合体制造用基板(10)的出口进行加热。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114929621A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202180008111.5
申请日：2021-02-15
Applicant: 日本瑞翁株式会社
IPC: C01B32/162 , C01B32/164
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够高效地生产高品质的碳纳米管集合体的碳纳米管集合体的制造方法。本发明涉及一种使碳纳米管集合体在表面具有催化剂的基材上生长的制造方法。在该制造方法中，分别在形成单元和生长单元中使用运送单元连续地运送基材，所述形成单元进行使基材上的催化剂成为还原状态的形成工序，所述生长单元进行使碳纳米管集合体生长的生长工序，所述运送单元通过螺杆旋转来运送基材。而且，在实施形成工序和生长工序时，在防止这些工序中的气体环境相互混入的同时实施这两个工序。
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公开(公告)号：CN102307808B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201080007139.9
申请日：2010-02-08
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
IPC: C01B31/02
CPC classification number: C01B31/0226 , B01J15/005 , B01J19/088 , B01J19/126 , B01J19/22 , B01J2219/0009 , B01J2219/00094 , B01J2219/00123 , B01J2219/00135 , B01J2219/00139 , B01J2219/00148 , B01J2219/00159 , B01J2219/00164 , B01J2219/0894 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/158 , C01B32/16 , C01B32/164 , C01B2202/08 , C23C16/26 , C23C16/46
Abstract: 所涉及的取向碳纳米管集合体的制造装置是一种，以基材表面所形成的催化剂的周边环作为境还原气体环境，同时对前述催化剂以及前述还原气体中的至少一方进行加热之后，将前述催化剂的周边环境设定为原料气体环境，同时对前述催化剂以及前述原料气体中的至少一方进行加热，使取向碳纳米管集合体生长的取向碳纳米管集合体的制造装置，暴露在前述还原气体中的装置部件以及暴露在前述原料气体中的装置部件之中，至少有一个装置部件的材质为耐热合金，并且该表面经过了溶融镀铝处理。
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公开(公告)号：CN101228463B
公开(公告)日：2010-05-26
申请号：CN200680026794.2
申请日：2006-07-24
Applicant: 日本瑞翁株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
Abstract: 本发明涉及一种栅格起偏镜，其包括包含透明材料的第1层、包含透明材料的第3层以及位于第1层和第3层之间的第2层；第2层，其包括细长线状延伸的多个A层和细长线状延伸的多个B层，这些A层和B层被交替并列配置，所述A层包含复折射率(N＝n-iκ)的实部n和虚部κ之差的绝对值为1.0以上的材料，所述B层包含气体；第3层，其通过包含与无机材料结合的反应基团和与有机材料结合的反应基团的化合物与A层结合、或包含透明的无机氧化物或无机氮化物、或包含多孔性物质。
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公开(公告)号：CN114746365A
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202180006882.0
申请日：2021-02-15
Applicant: 日本瑞翁株式会社
IPC: C01B32/158 , C01B32/16
Abstract: 本发明的目的在于提供一种分散性优异的碳纳米管集合体及其制造方法。本发明涉及满足下述(1)～(3)的条件中的至少一个的碳纳米管集合体。(1)在使CNT集合体分散而得到的CNT分散体的FT‑IR光谱中，CNT的基于等离激元共振的峰存在于波数大于300cm‑1且2000cm‑1以下的范围。(2)CNT集合体的微分细孔容量分布中的最大的峰在细孔径大于100nm且小于400nm的范围。(3)CNT集合体的电子显微镜图像的二维空间频谱的峰在1μm‑1以上且100μm‑1以下的范围至少存在一个。
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公开(公告)号：CN102471065B
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201080028714.3
申请日：2010-06-29
Applicant: 日本瑞翁株式会社 , 独立行政法人产业技术总合研究所
IPC: C01B31/02
CPC classification number: C01B31/024 , B01J15/005 , B01J19/0006 , B01J19/0073 , B01J19/22 , B01J2219/00159 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/164 , C01B2202/08 , C23C16/0218 , C23C16/26 , C23C16/4408 , C23C16/4412 , C23C16/45502 , Y02P20/149
Abstract: 本发明提供一种取向CNT集合体的连续制造装置，其具有防止生长炉(3a)外的气体混入到生长炉(3a)内的气体中的气体混入防止机构(12、13)，所述气体混入防止机构(12、13)具有密封气体喷射部(12b、13b)和排气部(12a、13a)，所述密封气体喷射部(12b、13b)沿着生长炉(3a)的装入催化剂基板(10)的口及取出催化剂基板(10)的口的开口面喷射密封气体；所述排气部(12a、13a)以所述密封气体不从该口进入所述生长炉(3a)中的方式抽吸所述密封气体并排出到制造装置(100)的外部，由此，可一边连续地输送负载有催化剂的基体材料一边制造取向碳纳米管集合体，并且，该制造装置能够防止大气混入，且能够将原料气体和/或催化剂活化物质在基体材料上的浓度分布、流速分布均匀地控制在适合CNT制造的范围内，并且尽可能不扰乱生长炉内的气流。
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