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1.

发明公开
光学用膜及其制造方法无效

公开(公告)号：CN105359011A

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：CN201480037328.9

申请日：2014-06-24

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 石黑淳 , 斋藤大辅 , 小原祯二

IPC: G02B5/30 , B29C47/14 , B29C47/78 , G02F1/1335 , G02F1/13363

Abstract: 本发明提供光学用膜，其由嵌段共聚物氢化物[2]形成，所述嵌段共聚物氢化物[2]是将嵌段共聚物[1]的全部不饱和键氢化而得到的，所述嵌段共聚物[1]包含以源自芳香族乙烯基化合物的重复单元为主成分的2个以上的聚合物嵌段[A]和以源自链状共轭二烯化合物的重复单元为主成分的1个以上的聚合物嵌段[B]，在将全部聚合物嵌段[A]、[B]在嵌段共聚物整体中所占的重量分率设为wA、wB时，(wA:wB)为40:60～80:20，该膜的长度方向上所形成的分模线的从相邻的峰的顶点到谷的底点之间的高度在膜整个面上为100nm以下，且膜表面的分模线的倾斜度在膜整个面上为300nm/mm以下。根据本发明，可提供表面缺陷少的光学用膜。

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