等离子体处理装置
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102647847B

    公开(公告)日:2013-07-10

    申请号:CN201210127627.4

    申请日:2012-04-26

    CPC classification number: H01J37/321 H01J37/3211

    Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置,其是电感耦合型装置,可减小天线的有效电感系数,将等离子体电位抑制得较低,并且,可通过该天线来控制其长度方向上的等离子体密度分布。该等离子体处理装置中,由相互接近而配置在沿着竖立在基板(2)表面的垂线(3)的方向即上下方向(Z)上且使高频电流(IR)相互逆向地流动的返回导体(31、32),构成平面形状平直的天线(30)。且,使返回导体(31、32)间的上下方向(Z)的间隔(D)在天线(30)的长度方向(X)上进行变化。

    等离子体处理装置
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102647847A

    公开(公告)日:2012-08-22

    申请号:CN201210127627.4

    申请日:2012-04-26

    CPC classification number: H01J37/321 H01J37/3211

    Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置,其是电感耦合型装置,可减小天线的有效电感系数,将等离子体电位抑制得较低,并且,可通过该天线来控制其长度方向上的等离子体密度分布。该等离子体处理装置中,由相互接近而配置在沿着竖立在基板(2)表面的垂线(3)的方向即上下方向(Z)上且使高频电流(IR)相互逆向地流动的返回导体(31、32),构成平面形状平直的天线(30)。且,使返回导体(31、32)间的上下方向(Z)的间隔(D)在天线(30)的长度方向(X)上进行变化。

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