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公开(公告)号：CN103811027A
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：CN201210452363.X
申请日：2012-11-13
Applicant: 新科实业有限公司
Abstract: 本发明公开一种用于热辅助磁头滑动块的写元件，包括：面向磁性记录媒介的空气承载面；第一磁极、第二磁极以及层夹于所述第一磁极和第二磁极之间的线圈；波导路，用于引导由安装于热辅助磁头滑动块的衬底之上的光源模块产生的光；以及设置于所述第一磁极和所述波导路附近的等离子体激元单元，所述等离子体激元单元具有一近场光产生表面以传播近场光至所述空气承载面。其中，所述等离子体激元单元的所述近场光产生表面与所述空气承载面相距第一预定距离以形成第一凹陷，且所述第一凹陷填充有保护层。本发明能防止等离子体激元单元凸伸出空气承载面，从而改善热辅助磁头滑动块的性能。本发明还公开了热辅助磁头滑动块、磁头折片组合、硬盘驱动器及制造方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101543974B
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：CN200810087035.8
申请日：2008-03-28
Applicant: 新科实业有限公司
Abstract: 本发明提供一种在元件高度形成研磨工序后的表面加工研磨工序中，抑制元件研磨量偏差的研磨装置和研磨方法。磁头滑块研磨装置1包括：能够把要成为磁头滑块的元件S压紧并支撑在旋转的研磨平盘上的研磨头2；设置有沿垂直方向延伸的第一嵌合部件12并支持研磨头的支撑结构；设置有沿垂直方向延伸的第二嵌合部件13并支持支撑结构3的基部，第二嵌合部件13与第一嵌合部件12相嵌合并在第二嵌合部件13和第一嵌合部件12之间形成内部空间；以及减压内部空间的减压结构，支撑结构受到来自减压后的内部空间沿垂直方向向上的力，该力大致抵消支撑结构及研磨头的自身重量，并使支撑结构及研磨头处于浮动状态，基部沿垂直方向可活动支持支撑结构。
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公开(公告)号：CN101574789B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200810096774.3
申请日：2008-05-07
Applicant: 新科实业有限公司
IPC: B24B19/26
Abstract: 本发明提供一种抑制元件研磨量偏差的磁头滑块研磨装置。该磁头滑块研磨装置包括：用于研磨要成为磁头滑块元件的可旋转的研磨平盘、具有内部空间32并沿与研磨平盘正交的研磨平盘正交轴C延伸的压力调整部件31、连接在压力调整部件31上且用于压紧元件的推动器6、以及连接在压力调整部件31上并向内部空间32提供气体的气体供给装置51。压力调整部件31包括：包含与推动器6连接的连接部的第一部分34、包含与内部空间32和气体供给装置51相连的相连部的第二部分36、以及设置在第一部分34和第二部分36之间并根据内部空间32的压力而使研磨平盘正交轴方向C长度变化的轴向变形部37，通过轴向变形部37的变形而使压力调整部件31对推动器6的压力产生变化。
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公开(公告)号：CN101574789A
公开(公告)日：2009-11-11
申请号：CN200810096774.3
申请日：2008-05-07
Applicant: 新科实业有限公司
IPC: B24B19/26
Abstract: 本发明提供一种抑制元件研磨量偏差的磁头滑块研磨装置。该磁头滑块研磨装置包括：用于研磨要成为磁头滑块元件的可旋转的研磨平盘、具有内部空间32并沿与研磨平盘正交的研磨平盘正交轴C延伸的压力调整部件31、连接在压力调整部件31上且用于压紧元件的推动器6、以及连接在压力调整部件31上并向内部空间32提供气体的气体供给装置51。压力调整部件31包括：包含与推动器6连接的连接部的第一部分34、包含与内部空间32和气体供给装置51相连的相连部的第二部分36、以及设置在第一部分34和第二部分36之间并根据内部空间32的压力而使研磨平盘正交轴方向C长度变化的轴向变形部37，通过轴向变形部37的变形而使压力调整部件31对推动器6的压力产生变化。
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公开(公告)号：CN103811027B
公开(公告)日：2018-06-05
申请号：CN201210452363.X
申请日：2012-11-13
Applicant: 新科实业有限公司
Abstract: 本发明公开一种用于热辅助磁头滑动块的写元件，包括：面向磁性记录媒介的空气承载面；第一磁极、第二磁极以及层夹于所述第一磁极和第二磁极之间的线圈；波导路，用于引导由安装于热辅助磁头滑动块的衬底之上的光源模块产生的光；以及设置于所述第一磁极和所述波导路附近的等离子体激元单元，所述等离子体激元单元具有一近场光产生表面以传播近场光至所述空气承载面。其中，所述等离子体激元单元的所述近场光产生表面与所述空气承载面相距第一预定距离以形成第一凹陷，且所述第一凹陷填充有保护层。本发明能防止等离子体激元单元凸伸出空气承载面，从而改善热辅助磁头滑动块的性能。本发明还公开了热辅助磁头滑动块、磁头折片组合、硬盘驱动器及制造方法。
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公开(公告)号：CN101543974A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200810087035.8
申请日：2008-03-28
Applicant: 新科实业有限公司
Abstract: 本发明提供一种在元件高度形成研磨工序后的表面加工研磨工序中，抑制元件研磨量偏差的研磨装置和研磨方法。磁头滑块研磨装置1包括：能够把要成为磁头滑块的元件S压紧并支撑在旋转的研磨平盘上的研磨头2；设置有沿垂直方向延伸的第一嵌合部件12并支持研磨头的支撑结构；设置有沿垂直方向延伸的第二嵌合部件13并支持支撑结构3的基部，第二嵌合部件13与第一嵌合部件12相嵌合并在第二嵌合部件13和第一嵌合部件12之间形成内部空间；以及减压内部空间的减压结构，支撑结构受到来自减压后的内部空间沿垂直方向向上的力，基部沿垂直方向可活动支持支撑结构。
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