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公开(公告)号：CN101543974B
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：CN200810087035.8
申请日：2008-03-28
Applicant: 新科实业有限公司
Abstract: 本发明提供一种在元件高度形成研磨工序后的表面加工研磨工序中，抑制元件研磨量偏差的研磨装置和研磨方法。磁头滑块研磨装置1包括：能够把要成为磁头滑块的元件S压紧并支撑在旋转的研磨平盘上的研磨头2；设置有沿垂直方向延伸的第一嵌合部件12并支持研磨头的支撑结构；设置有沿垂直方向延伸的第二嵌合部件13并支持支撑结构3的基部，第二嵌合部件13与第一嵌合部件12相嵌合并在第二嵌合部件13和第一嵌合部件12之间形成内部空间；以及减压内部空间的减压结构，支撑结构受到来自减压后的内部空间沿垂直方向向上的力，该力大致抵消支撑结构及研磨头的自身重量，并使支撑结构及研磨头处于浮动状态，基部沿垂直方向可活动支持支撑结构。
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公开(公告)号：CN101574789B
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：CN200810096774.3
申请日：2008-05-07
Applicant: 新科实业有限公司
IPC: B24B19/26
Abstract: 本发明提供一种抑制元件研磨量偏差的磁头滑块研磨装置。该磁头滑块研磨装置包括：用于研磨要成为磁头滑块元件的可旋转的研磨平盘、具有内部空间32并沿与研磨平盘正交的研磨平盘正交轴C延伸的压力调整部件31、连接在压力调整部件31上且用于压紧元件的推动器6、以及连接在压力调整部件31上并向内部空间32提供气体的气体供给装置51。压力调整部件31包括：包含与推动器6连接的连接部的第一部分34、包含与内部空间32和气体供给装置51相连的相连部的第二部分36、以及设置在第一部分34和第二部分36之间并根据内部空间32的压力而使研磨平盘正交轴方向C长度变化的轴向变形部37，通过轴向变形部37的变形而使压力调整部件31对推动器6的压力产生变化。
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公开(公告)号：CN101543974A
公开(公告)日：2009-09-30
申请号：CN200810087035.8
申请日：2008-03-28
Applicant: 新科实业有限公司
Abstract: 本发明提供一种在元件高度形成研磨工序后的表面加工研磨工序中，抑制元件研磨量偏差的研磨装置和研磨方法。磁头滑块研磨装置1包括：能够把要成为磁头滑块的元件S压紧并支撑在旋转的研磨平盘上的研磨头2；设置有沿垂直方向延伸的第一嵌合部件12并支持研磨头的支撑结构；设置有沿垂直方向延伸的第二嵌合部件13并支持支撑结构3的基部，第二嵌合部件13与第一嵌合部件12相嵌合并在第二嵌合部件13和第一嵌合部件12之间形成内部空间；以及减压内部空间的减压结构，支撑结构受到来自减压后的内部空间沿垂直方向向上的力，基部沿垂直方向可活动支持支撑结构。
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公开(公告)号：CN101574789A
公开(公告)日：2009-11-11
申请号：CN200810096774.3
申请日：2008-05-07
Applicant: 新科实业有限公司
IPC: B24B19/26
Abstract: 本发明提供一种抑制元件研磨量偏差的磁头滑块研磨装置。该磁头滑块研磨装置包括：用于研磨要成为磁头滑块元件的可旋转的研磨平盘、具有内部空间32并沿与研磨平盘正交的研磨平盘正交轴C延伸的压力调整部件31、连接在压力调整部件31上且用于压紧元件的推动器6、以及连接在压力调整部件31上并向内部空间32提供气体的气体供给装置51。压力调整部件31包括：包含与推动器6连接的连接部的第一部分34、包含与内部空间32和气体供给装置51相连的相连部的第二部分36、以及设置在第一部分34和第二部分36之间并根据内部空间32的压力而使研磨平盘正交轴方向C长度变化的轴向变形部37，通过轴向变形部37的变形而使压力调整部件31对推动器6的压力产生变化。
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