公开(公告)号：CN107250033A

公开(公告)日：2017-10-13

申请号：CN201680011162.2

申请日：2016-02-19

Applicant: 斯维尔系统

Inventor： M·梅德哈特 ,  B·莫塔达 ,  Y·萨布里 ,  S·纳泽尔 ,  Y·纳达 ,  M·萨德克 ,  B·A·萨达尼

IPC: B81C1/00

Abstract: 具有两个或更多个层级的开口的荫罩实现了微光学工作台设备内的微加工结构的选择性阶梯覆盖。荫罩包括在荫罩的顶面内的第一开口和在荫罩的底面内的第二开口。第二开口与第一开口对准并且具有小于第一开口的第一宽度的第二宽度。第一开口与第二开口之间的交叠部在荫罩内形成孔，通过该孔可以发生微光学工作台设备内的微加工结构的选择性涂覆。

公开(公告)号：CN107250033B

公开(公告)日：2020-10-09

申请号：CN201680011162.2

申请日：2016-02-19

Applicant: 斯维尔系统

Inventor： M·梅德哈特 ,  B·莫塔达 ,  Y·萨布里 ,  S·纳泽尔 ,  Y·纳达 ,  M·萨德克 ,  B·A·萨达尼

IPC: B81C1/00

Abstract: 具有两个或更多个层级的开口的荫罩实现了微光学工作台设备内的微加工结构的选择性阶梯覆盖。荫罩包括在荫罩的顶面内的第一开口和在荫罩的底面内的第二开口。第二开口与第一开口对准并且具有小于第一开口的第一宽度的第二宽度。第一开口与第二开口之间的交叠部在荫罩内形成孔，通过该孔可以发生微光学工作台设备内的微加工结构的选择性涂覆。