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公开(公告)号:CN102780159B
公开(公告)日:2014-07-16
申请号:CN201210263198.3
申请日:2012-07-27
申请人: 扬州乾照光电有限公司
摘要: 低线宽的980nmF-P腔应变量子阱激光器的外延片及其制备方法,涉及半导体激光器领域,本发明通过在GaAs衬底层上顺序生长缓冲层、过渡层、n型下限制层、下波导层、下势垒层、有源层、上势垒层、上波导层、p型上限制层和欧姆接触层,以此加工成低线宽的980nmF-P腔应变量子阱激光器,可应用于光学测量、固体激光器泵浦、激光光谱学、医疗研究等领域。
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公开(公告)号:CN102780159A
公开(公告)日:2012-11-14
申请号:CN201210263198.3
申请日:2012-07-27
申请人: 扬州乾照光电有限公司
摘要: 低线宽的980nmF-P腔应变量子阱激光器的外延片及其制备方法,涉及半导体激光器领域,本发明通过在GaAs衬底层上顺序生长缓冲层、过渡层、n型下限制层、下波导层、下势垒层、有源层、上势垒层、上波导层、p型上限制层和欧姆接触层,以此加工成低线宽的980nmF-P腔应变量子阱激光器,可应用于光学测量、固体激光器泵浦、激光光谱学、医疗研究等领域。
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公开(公告)号:CN202415739U
公开(公告)日:2012-09-05
申请号:CN201120464155.2
申请日:2011-11-21
申请人: 扬州乾照光电有限公司
摘要: LED外延生长装置,属于外延生长设备技术领域,炉筒的上、下两端分别连接炉盖和炉底,在炉盖上分别设氮气进气口、混合气体接入通道和若干氢气进气通道;在炉盖和环形石墨护罩之间夹持环形均温组件,于环形石墨护罩内,在环形均温组件下端布置冷却装置;在环形均温组件上开设氢气引入通道,氢气引入通道的上端与炉盖上的氢气进气通道连接,氢气引入通道的下端布置在小石墨基盘的上方;在炉筒内的炉底上设置排气口。本实用新型可控制反应室与炉盖之间的温度,当反应室内的温度与炉盖的温度差较小时,在冷却装置表面就不容易生长颗粒。可省去更换冷却装置的工作量,节省时间,提高外延生产效率和外延产品的质量。
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公开(公告)号:CN202817486U
公开(公告)日:2013-03-20
申请号:CN201220367669.0
申请日:2012-07-27
申请人: 扬州乾照光电有限公司
摘要: 低线宽的980nm F-P腔应变量子阱激光器的外延片,涉及半导体激光器领域,本实用新型通过在GaAs衬底层上顺序生长缓冲层、过渡层、n型下限制层、下波导层、下势垒层、有源层、上势垒层、上波导层、p型上限制层和欧姆接触层,以此加工成低线宽的980nm F-P腔应变量子阱激光器,可应用于光学测量、固体激光器泵浦、激光光谱学、医疗研究等领域。
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