用于半导体装置制造的玻璃晶片
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114746981A

    公开(公告)日:2022-07-12

    申请号:CN202080082433.X

    申请日:2020-11-24

    Abstract: 本文描述了用于半导体制造工艺的玻璃晶片的实施方式。在一些实施方式中,玻璃晶片包括:玻璃基材,其包含顶表面、与顶表面相反的底表面以及顶表面与底表面之间的边缘表面;布置在玻璃基材的顶部的第一涂层,其中,第一涂层是片电阻为100至1,000,000欧姆每平方的经掺杂的晶体硅涂层;以及布置在玻璃基材的顶部的具有一层或多层的第二涂层,其中,第二涂层包括含硅涂层,其中,玻璃晶片在400nm至1000nm的整个波长范围上具有小于50%的平均透射率(T)。

    采用聚电解质多层的具有大粗糙度的基材临时性粘结

    公开(公告)号:CN115175809A

    公开(公告)日:2022-10-11

    申请号:CN202180016325.7

    申请日:2021-02-15

    Abstract: 制品以及包含薄片和载体的制品(例如,玻璃制品)的制造方法,其中,采用多层改性(涂)层(例如,交替的阳离子/阴离子聚合物涂层)将薄片与载体粘结到一起,以及相关的沉积方法,载体,或者两者,从而控制薄片与载体之间的范德华力、氢键和共价键。改性层将薄片与载体粘结到一起,具有足够的粘结强度来防止薄片与载体在高温(≤400℃)加工过程中的分层同时还防止在此类加工过程中在片材之间形成永久性粘结。

    功能性层压玻璃制品及其制造方法

    公开(公告)号:CN115803188A

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN202180047578.0

    申请日:2021-06-25

    Abstract: 一种功能性层压玻璃制品,包括:背衬基材;挠性玻璃基材,该挠性玻璃基材包含不超过300μm的厚度,并且通过粘合剂层压到背衬基材;设置在背衬基材和挠性玻璃基材中的一者或两者上的多条导电迹线;以及设置在背衬基材与挠性玻璃基材之间并且与所述多条导电迹线接触的多个电子装置元件。进一步地,粘合剂将导电迹线和电子装置元件包封在背衬基材和挠性玻璃基材之间。

Patent Agency Ranking