-
公开(公告)号:CN107107561B
公开(公告)日:2019-12-27
申请号:CN201580069544.6
申请日:2015-12-16
申请人: 康宁公司
发明人: 本尼迪克特·约克·约翰逊 , 普兰蒂克·玛祖德 , 卡莫尔·克什尔·索尼
IPC分类号: B32B17/06 , C01B32/184
摘要: 本文描述的是从形成基板转移石墨烯到目标基板的改进方法。特别是,本文描述的方法可用于经由非聚合方法从金属(例如铜)形成基板转移高品质化学气相沉积生长的单层石墨烯。所述改进方法提供在结构中具有较少缺陷的石墨烯材料。
-
公开(公告)号:CN115515910A
公开(公告)日:2022-12-23
申请号:CN202180032716.8
申请日:2021-03-29
申请人: 康宁公司
摘要: 一种制造玻璃制品的方法,包括:(A)在玻璃基板上形成催化金属的第一层;(B)加热玻璃基板;(C)在第一层上形成第一金属和第二金属的合金的第二层;(D)加热玻璃基板,从而形成玻璃制品,玻璃制品包括:(i)玻璃基板;(ii)共价结合至玻璃基板的第一金属的氧化物;以及(iii)结合至氧化物的金属区域,金属区域包括催化金属、第一金属和第二金属。在实施方式中,方法进一步包括:(E)在金属区域上形成主要金属的第三层;以及(F)加热玻璃制品,从而形成玻璃制品,玻璃制品包括:(i)共价结合至玻璃基板的第一金属的氧化物;以及(ii)结合至氧化物的新金属区域,新金属区域包括催化剂、第一金属、第二金属和主要金属。
-
公开(公告)号:CN108137390A
公开(公告)日:2018-06-08
申请号:CN201680057567.X
申请日:2016-08-30
申请人: 康宁公司
发明人: 本尼迪克特·约克·约翰逊 , 刘鑫源 , 普兰蒂克·玛祖德
CPC分类号: B32B37/025 , B32B7/06 , B32B9/04 , B32B37/26 , B32B38/10 , B32B2037/268 , B32B2255/26 , C01B32/194 , C01P2002/82 , C01P2002/84 , C01P2004/24 , C03C17/22 , C03C2217/28 , C23C16/01 , C23C16/26
摘要: 本文公开了用于将石墨烯膜转移到基底上的方法,所述方法包括将聚合物层施加到石墨烯膜的第一表面,其中所述石墨烯膜的第二表面与生长基底接触;将热释放聚合物层施加到所述聚合物层上;去除所述生长基底以形成包括暴露的石墨烯表面的转移基底;以及使所述暴露的石墨烯表面与目标基底接触。本文还公开了包括石墨烯膜、热释放聚合物层和聚合物层的转移基底。
-
公开(公告)号:CN107428600A
公开(公告)日:2017-12-01
申请号:CN201580073072.1
申请日:2015-12-16
申请人: 康宁公司 , 光子科学研究所 , 加泰罗尼亚高级研究院
发明人: 本尼迪克特·约克·约翰逊 , 刘鑫源 , 普兰蒂克·玛祖德 , 卡莫尔·克什尔·索尼 , 米里亚姆·马切纳·马丁-法兰西斯 , 瓦莱里奥·普兰尼日 , 陈桐莱
IPC分类号: C03C17/22 , C03C15/00 , C01B32/194
摘要: 本文中描述了将石墨烯从成型基板转移到目标基板的改进方法。具体来说,本文中描述的方法可用于将高质量的通过化学气相沉积生长的单层石墨烯从金属(例如,铜)成型基板转移到超薄柔性玻璃靶材。改进工艺提供在结构上具较少缺陷的石墨烯材料。
-
公开(公告)号:CN107107561A
公开(公告)日:2017-08-29
申请号:CN201580069544.6
申请日:2015-12-16
申请人: 康宁公司
发明人: 本尼迪克特·约克·约翰逊 , 普兰蒂克·玛祖德 , 卡莫尔·克什尔·索尼
IPC分类号: B32B17/06 , C01B32/184
摘要: 本文描述的是从形成基板转移石墨烯到目标基板的改进方法。特别是,本文描述的方法可用于经由非聚合方法从金属(例如铜)形成基板转移高品质化学气相沉积生长的单层石墨烯。所述改进方法提供在结构中具有较少缺陷的石墨烯材料。
-
公开(公告)号:CN115244334A
公开(公告)日:2022-10-25
申请号:CN202180018063.8
申请日:2021-02-01
申请人: 康宁公司
发明人: 乔伊·班纳吉 , 英德拉尼·巴塔查里亚 , 普兰蒂克·玛祖德 , 沃尔查克·万达·贾尼纳
IPC分类号: F21V8/00 , C03C17/32 , G02F1/13357
摘要: 公开一种显示器背光单元,包括具有第一主表面和与所述第一主表面相对的第二主表面的玻璃基板以及多个含PMMA光提取点,所述第一主表面用3‑巯基丙基三甲氧基硅烷、氨基丙基三乙氧基硅烷或硅烷化PMMA中的至少一者涂布,所述多个含PMMA光提取点沉积在所述经涂布的第一主表面上。
-
-
-
-
-