公开(公告)号：CN1896302A

公开(公告)日：2007-01-17

申请号：CN200610092768.1

申请日：2006-06-14

Applicant: 应用膜公司

Inventor： 迈克尔·W.·斯托厄尔

IPC: C23C14/54 ,  C23C14/34 ,  H01J27/02

CPC classification number: H01J37/32935 ,  C23C14/34 ,  C23C14/54 ,  H01J37/3405

Abstract: 公开一种在溅射系统中用于控制离子密度和溅射速率的方法。在一个实施例中，加第一脉冲宽度功率信号到阴极，从而产生较高的浓度离子。然后，减小第一脉冲宽度功率信号的脉冲宽度，从而增大溅射速率和减小阴极周围的离子密度。其次，重复该过程以产生调制的信号。

公开(公告)号：CN1958840A

公开(公告)日：2007-05-09

申请号：CN200610143249.3

申请日：2006-11-01

Applicant: 应用膜公司

Inventor： 迈克尔·W.·斯托厄尔

IPC: C23C16/00 ,  C23C16/52 ,  C23C16/448 ,  C23C16/513

CPC classification number: C23C16/515 ,  C23C16/029 ,  C23C16/308 ,  C23C16/401 ,  C23C16/52 ,  H01J37/32201

Abstract: 公开了一种在化学汽相淀积过程中生成膜的方法。一个实施例包括：产生具有第一脉冲振幅的第一电脉冲；使用第一电脉冲产生第一密度的原子团化物质；使用第一密度的原子团化物质中的原子团化物质分解原料气体，由此产生第一淀积材料；将第一淀积材料淀积到衬底上；产生具有第二脉冲振幅的第二电脉冲，其中，第二脉冲振幅与第一脉冲宽度不同；使用第二电脉冲产生第二密度的原子团化物质；使用第二密度的原子团化物质中的原子团化物质分解原料气体，由此产生第二淀积材料；和，将第二多种淀积材料淀积到第一淀积材料上。

公开(公告)号：CN101974732A

公开(公告)日：2011-02-16

申请号：CN201010277159.X

申请日：2006-06-14

Applicant: 应用膜公司

Inventor： 迈克尔·W.·斯托厄尔

IPC: C23C14/54 ,  C23C14/34 ,  H01J27/02

CPC classification number: H01J37/32935 ,  C23C14/34 ,  C23C14/54 ,  H01J37/3405

Abstract: 公开一种在溅射系统中用于控制离子密度和溅射速率的方法。在一个实施例中，加第一脉冲宽度功率信号到阴极，从而产生较高的浓度离子。然后，减小第一脉冲宽度功率信号的脉冲宽度，从而增大溅射速率和减小阴极周围的离子密度。其次，重复该过程以产生调制的信号。

公开(公告)号：CN1958843A

公开(公告)日：2007-05-09

申请号：CN200610094141.X

申请日：2006-06-27

Applicant: 应用膜公司 ,  应用材料有限及两合公司

Inventor： 迈克尔·W.·斯托厄尔 ,  迈克尔·莱尔 ,  史蒂文·维德尔 ,  乔斯·曼纽尔·迪格兹-坎波

IPC: C23C16/52 ,  C23C16/513

CPC classification number: C23C16/515

Abstract: 用于微波直线放电源功率函数斜坡的系统和方法，本发明的一个实施例是在基片上沉积薄膜的系统。这个系统包括：真空室；放置在真空室内的直线放电管；配置成产生微波功率信号的磁控管，该信号可以加到直线放电管上；配置成提供信号到磁控管的功率源，和与功率源连接的脉冲控制器。该脉冲控制器配置成控制多个脉冲的占空比，多个脉冲的频率，和/或多个脉冲的轮廓。

公开(公告)号：CN1896296A

公开(公告)日：2007-01-17

申请号：CN200610092769.6

申请日：2006-06-14

Applicant: 应用膜公司

Inventor： 迈克尔·W.·斯托厄尔

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/54

CPC classification number: H01J37/32137 ,  H01J37/32027 ,  H01J37/32036 ,  H01J37/32743 ,  H01J37/32752 ,  H01J37/34

Abstract: 一个包含溅射系统的实施例，包括：真空室；配置成传输基片通过真空室的基片传输系统；用于支承溅射靶的阴极，该阴极至少部分是在真空室内；和配置成提供功率给阴极的功率源，且该功率源配置成输出调制的功率信号。与实施方案有关，功率源可以配置成输出幅度调制的功率信号；频率调制的功率信号；脉冲宽度功率信号；脉冲位置功率信号；脉冲幅度调制的功率信号；或任何其他类型调制的功率信号或能量信号。