公开(公告)号：CN101093786B

公开(公告)日：2010-12-22

申请号：CN200710087479.7

申请日：2007-03-19

Applicant: 应用材料股份有限公司

Inventor： 胡安·卡洛斯·罗奇-阿尔维斯 ,  托马斯·诺瓦克 ,  戴尔·R·杜·博伊斯 ,  萨尼夫·巴鲁贾 ,  斯科特·A·亨德里克森 ,  达斯廷·W·胡 ,  安德兹·卡祖巴 ,  汤姆·K·乔 ,  希姆·M·萨德 ,  恩德卡·O·米科蒂

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/3105 ,  C23C16/56

CPC classification number: B05D3/067 ,  B29C71/04 ,  B29C2035/0827 ,  F26B3/28 ,  H01L21/67115

Abstract: 本发明的实施方式主要涉及一种用于固化沉积于衬底上的介电材料的紫外固化腔室以及利用紫外辐射固化介电材料的方法。根据本发明实施方式的一种衬底处理设备包括限定衬底处理区的主体；在所述衬底处理区内支撑衬底的衬底支架；与所述衬底支架间隔设置的紫外辐射灯，所述灯设计用于向位于所述衬底支架上的衬底传播紫外辐射；以及运转耦合的电机使所述紫外辐射灯或衬底支架的至少其中之一相对彼此旋转至少180度。所述衬底处理设备还可包括一个或多个反射器，其用于在衬底上产生紫外辐射的泛光图案，所述图案具有高亮度区域和低亮度区域，当旋转时，所述区域结合而产生基本均匀的辐射图案。在本发明中还公开了其他实施方式。

公开(公告)号：CN101109073A

公开(公告)日：2008-01-23

申请号：CN200710128066.9

申请日：2007-06-26

Applicant: 应用材料股份有限公司

Inventor： 达斯廷·W·胡 ,  胡安·卡洛斯·罗奇-阿尔维斯 ,  戴尔·R·杜·博伊斯 ,  斯科特·A·亨德里克森 ,  萨尼夫·巴鲁贾 ,  恩德卡·O·米科蒂

IPC: C23C16/36 ,  C23C16/30

Abstract: 一种再循环冷却系统可以与固化系统一起使用，以减小系统的排气需求。另外，使用冷却液诸如氮降低臭氧的产生以及系统的密封需求。一种简单的热交换器可以在返回和供应容器之间使用，以去除在循环经过固化辐射源期间添加到再循环流体的热。氮可来自氮源，或者来自膜或可用以分裂供应气体为其分子组分的其它器件以提供富氮气源。一种臭氧破坏单元可以与该冷却系统一起使用以减少臭氧量至可接收级别，并最小化氮气的消耗。催化剂可用以耗尽在反应期间没有消耗的臭氧。

公开(公告)号：CN102136411A

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：CN201010534873.2

申请日：2007-03-19

Applicant: 应用材料股份有限公司

Inventor： 胡安·卡洛斯·罗奇-阿尔维斯 ,  托马斯·诺瓦克 ,  戴尔·R·杜·博伊斯 ,  萨尼夫·巴鲁贾 ,  斯科特·A·亨德里克森 ,  达斯廷·W·胡 ,  安德兹·卡祖巴 ,  汤姆·K·乔 ,  希姆·M·萨德 ,  恩德卡·O·米科蒂

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/3105 ,  C23C16/56

CPC classification number: B05D3/067 ,  B29C71/04 ,  B29C2035/0827 ,  F26B3/28 ,  H01L21/67115

Abstract: 本发明的实施方式主要涉及一种用于固化沉积于衬底上的介电材料的紫外固化腔室以及利用紫外辐射固化介电材料的方法。根据本发明实施方式的一种衬底处理设备包括限定衬底处理区的主体；在所述衬底处理区内支撑衬底的衬底支架；与所述衬底支架间隔设置的紫外辐射灯，所述灯设计用于向位于所述衬底支架上的衬底传播紫外辐射；以及运转耦合的电机使所述紫外辐射灯或衬底支架的至少其中之一相对彼此旋转至少180度。所述衬底处理设备还可包括一个或多个反射器，其用于在衬底上产生紫外辐射的泛光图案，所述图案具有高亮度区域和低亮度区域，当旋转时，所述区域结合而产生基本均匀的辐射图案。在本发明中还公开了其他实施方式。

公开(公告)号：CN102077339A

公开(公告)日：2011-05-25

申请号：CN200980124224.0

申请日：2009-06-17

Applicant: 应用材料股份有限公司

Inventor： 戴尔·R·杜·博伊斯 ,  马克·A·福多尔 ,  卡希克·贾纳基拉曼 ,  胡安·卡洛斯·罗奇-阿尔维斯

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/68742

Abstract: 本发明所描述的具体实施例大致提供了一种举升销组件，可增加放置晶片的精确度、可重复性、稳定性及可防止侵蚀。在一具体实施例中，提供了一种用以相对于基板支撑件来置放基板的举升销组件。这种举升销组件包含：举升销，其具有销轴、与该销轴的第一端耦接用以支撑基板的销头和耦接于该销轴的第二端的肩部。举升销组件还包含滑动式耦接于销轴的圆柱形主体和用以防止此圆柱形主体沿着轴滑落的锁定销，其中此肩部具有尺寸能容纳锁定销的通孔。

公开(公告)号：CN101093786A

公开(公告)日：2007-12-26

申请号：CN200710087479.7

申请日：2007-03-19

Applicant: 应用材料股份有限公司

Inventor： 胡安·卡洛斯·罗奇-阿尔维斯 ,  托马斯·诺瓦克 ,  戴尔·R·杜·博伊斯 ,  萨尼夫·巴鲁贾 ,  斯科特·A·亨德里克森 ,  达斯廷·W·胡 ,  安德兹·卡祖巴 ,  汤姆·K·乔 ,  希姆·M·萨德 ,  恩德卡·O·米科蒂

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/3105 ,  C23C16/56

CPC classification number: B05D3/067 ,  B29C71/04 ,  B29C2035/0827 ,  F26B3/28 ,  H01L21/67115

Abstract: 本发明的实施方式主要涉及一种用于固化沉积于衬底上的介电材料的紫外固化腔室以及利用紫外辐射固化介电材料的方法。根据本发明实施方式的一种衬底处理设备包括限定衬底处理区的主体；在所述衬底处理区内支撑衬底的衬底支架；与所述衬底支架间隔设置的紫外辐射灯，所述灯设计用于向位于所述衬底支架上的衬底传播紫外辐射；以及运转耦合的电机使所述紫外辐射灯或衬底支架的至少其中之一相对彼此旋转至少180度。所述衬底处理设备还可包括一个或多个反射器，其用于在衬底上产生紫外辐射的泛光图案，所述图案具有高亮度区域和低亮度区域，当旋转时，所述区域结合而产生基本均匀的辐射图案。在本发明中还公开了其他实施方式。