公开(公告)号：CN102414793A

公开(公告)日：2012-04-11

申请号：CN201080019306.1

申请日：2010-03-30

Applicant: 应用材料公司

Inventor： Z·刘 ,  R·王 ,  X·唐 ,  S·冈迪科塔 ,  T-J·龚 ,  M·M·拉希德

IPC: H01L21/203 ,  C23C14/34

CPC classification number: C23C14/3407 ,  H01J37/342 ,  H01J37/3423

Abstract: 本文公开靶材组件及包括靶材组件的PVD腔室。靶材组件包括具有凹面外形的靶材。当用于PVD腔室中时，凹面靶材在配置于溅射腔室中的基板上提供径向更均匀的沉积。

公开(公告)号：CN105513952A

公开(公告)日：2016-04-20

申请号：CN201610123696.6

申请日：2010-03-30

Applicant: 应用材料公司

Inventor： Z·刘 ,  R·王 ,  X·唐 ,  S·冈迪科塔 ,  T-J·龚 ,  M·M·拉希德

IPC: H01L21/203 ,  C23C14/34

CPC classification number: C23C14/3407 ,  H01J37/342 ,  H01J37/3423 ,  C23C14/34 ,  C23C14/35

Abstract: 本申请公开了用于PVD腔室的溅射靶材。本文公开靶材组件及包括靶材组件的PVD腔室。靶材组件包括具有凹面外形的靶材。当用于PVD腔室中时，凹面靶材在配置于溅射腔室中的基板上提供径向更均匀的沉积。