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公开(公告)号：CN113396240A
公开(公告)日：2021-09-14
申请号：CN202080012897.3
申请日：2020-02-26
Applicant: 应用材料公司
Inventor： H·K·P·库马兰库蒂 , P·A·德赛 , D·N·凯德拉亚 , S·阿加瓦尔 , V·S·M·班加罗尔 , T·恩古耶 , 黄祖滨
IPC: C23C16/455 , C23C16/44
Abstract: 本公开涉及一种用于基板处理腔室的盖组件设备及相关方法。在一个实施方式中，盖组件包括气体歧管。气体歧管包括被配置成接收工艺气体的第一气体通道、被配置成接收掺杂气体的第二气体通道、以及被配置成接收清洁气体的第三气体通道。盖组件还包括喷头。喷头包括被配置成接收工艺气体的一个或多个第一气体开口，以及被配置成接收掺杂气体的一个或多个第二气体开口。
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