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公开(公告)号：CN114040992A
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN202080044314.5
申请日：2020-06-16
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/24 , C23C16/30 , C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/52 , H01J37/317 , H01J37/32 , H01L21/30
Abstract: 在感应高密度等离子体腔室中，膜被改性以包括重氢。腔室硬件设计使得能够实现遍布基板的膜中的重氢浓度均匀性的可调性。固态电子设备的制造包括整合工艺流程以将实质上无氢和重氢的膜改性以包括重氢。
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