公开(公告)号：CN120019474A

公开(公告)日：2025-05-16

申请号：CN202380074858.X

申请日：2023-08-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 林永振 ,  黄志宇 ,  郎纪一 ,  黄和湧

IPC: H01L21/033 ,  C23C16/04 ,  C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  H01L21/311

Abstract: 本公开的实施方式大致上涉及用于增强碳硬掩模以具有改善的蚀刻选择性及轮廓控制的方法。在一些实施方式中，提供一种加工碳硬掩模层的方法，所述方法包括：将工件定位在处理腔室的处理区域内，其中工件具有设置在底层上或上方的碳硬掩模层；以及通过将工件暴露于顺序渗透合成（SIS）处理来加工碳硬掩模层，以产生比碳硬掩模层更致密的氧化铝碳混合硬掩模。SIS处理包括利用铝前体暴露及渗透碳硬掩模层、净化以移除气态残余物、利用氧化剂暴露及渗透碳硬掩模层，以产生设置在碳硬掩模层的内表面上的氧化铝涂覆、及净化处理区域以移除气态残留物。

公开(公告)号：CN115877676A

公开(公告)日：2023-03-31

申请号：CN202211167119.9

申请日：2022-09-23

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 黄志宇 ,  林永振 ,  加布里埃拉·阿尔瓦 ,  郎纪一 ,  和勇·大卫·黄 ,  韦恩·R·弗伦奇

IPC: G03F7/26 ,  G03F7/42

Abstract: 本公开内容的实施方式一般涉及用于增强光刻胶以具有改善的轮廓控制的方法。一种用于处理PR的方法包括：将工件定位在处理腔室的处理区域内，其中所述工件含有设置在底层上的图案化PR；通过将所述工件暴露于顺序浸渗合成工艺来处理所述图案化PR以产生经处理的图案化PR，所述经处理的图案化PR比所述图案化PR更致密和更硬。所述SIS工艺包括以下项的一个或多个浸渗循环：将所述图案化PR暴露于含有硅或硼的前驱物；用所述前驱物浸渗所述图案化PR；净化以去除所述前驱物的残余物；将所述图案化PR暴露于氧化剂；用所述氧化剂浸渗所述图案化PR以产生设置在所述图案化PR的内表面上的氧化物涂层；净化以去除所述氧化剂的残留物。