公开(公告)号：CN115244212B

公开(公告)日：2025-01-14

申请号：CN202180018843.2

申请日：2021-03-11

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 李路平 ,  杰奎琳·S·阮奇 ,  陈玟婷 ,  杨逸雄 ,  黄仁锡 ,  陈世忠 ,  斯里尼瓦斯·甘迪科塔

IPC: C23C16/06 ,  C23C16/14 ,  C23C16/18 ,  C23C16/32 ,  C23C16/455 ,  C23C16/02 ,  C23C16/04 ,  G02B5/08 ,  G02B1/02

Abstract: 本文描述了用于形成反射膜的方法和装置。在基板表面上形成衬垫，接着形成反射层，以使得在衬垫和反射层的形成之间不存在氧暴露。在一些实施方式中，通过在结构的顶部抑制生长的同时，用反射材料部分填充结构，使基板的顶部再活化，且随后用反射材料填充结构来用反射材料填充高深宽比结构。

公开(公告)号：CN115244212A

公开(公告)日：2022-10-25

申请号：CN202180018843.2

申请日：2021-03-11

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 李路平 ,  杰奎琳·S·阮奇 ,  陈玟婷 ,  杨逸雄 ,  黄仁锡 ,  陈世忠 ,  斯里尼瓦斯·甘迪科塔

IPC: C23C16/06 ,  C23C16/14 ,  C23C16/18 ,  C23C16/32 ,  C23C16/455 ,  C23C16/02 ,  C23C16/04 ,  G02B5/08 ,  G02B1/02

Abstract: 本文描述了用于形成反射膜的方法和装置。在基板表面上形成衬垫，接着形成反射层，以使得在衬垫和反射层的形成之间不存在氧暴露。在一些实施方式中，通过在结构的顶部抑制生长的同时，用反射材料部分填充结构，使基板的顶部再活化，且随后用反射材料填充结构来用反射材料填充高深宽比结构。