用于清洁基板的方法和装置

    公开(公告)号:CN105074879B

    公开(公告)日:2018-04-24

    申请号:CN201480009016.7

    申请日:2014-02-25

    Abstract: 一种基板清洁装置可包括:基板支撑构件,用以支撑基板,该基板具有第一侧面和污染的第二侧面;液态二氧化碳源;气态二氧化碳源;及一或更多个喷嘴,该一或更多喷嘴耦合至液态二氧化碳源和气态二氧化碳源,其中一或更多个喷嘴配置为接收液态二氧化碳及排放来自液态二氧化碳源的固态和气态二氧化碳的第一混合物至基板的第二侧面,及接收气态二氧化碳及排放来自气态二氧化碳源的固态和气态二氧化碳的第二混合物至基板的第二侧面。清洁基板的方法可在基板清洁装置中执行。

    用于清洁基板的方法和装置

    公开(公告)号:CN105074879A

    公开(公告)日:2015-11-18

    申请号:CN201480009016.7

    申请日:2014-02-25

    Abstract: 一种基板清洁装置可包括:基板支撑构件,用以支撑基板,该基板具有第一侧面和污染的第二侧面;液态二氧化碳源;气态二氧化碳源;及一或更多个喷嘴,该一或更多喷嘴耦合至液态二氧化碳源和气态二氧化碳源,其中一或更多个喷嘴配置为接收液态二氧化碳及排放来自液态二氧化碳源的固态和气态二氧化碳的第一混合物至基板的第二侧面,及接收气态二氧化碳及排放来自气态二氧化碳源的固态和气态二氧化碳的第二混合物至基板的第二侧面。清洁基板的方法可在基板清洁装置中执行。

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