公开(公告)号：CN114502324A

公开(公告)日：2022-05-13

申请号：CN202080069546.6

申请日：2020-08-18

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 骆英东 ,  斯瓦帕基亚·甘纳塔皮亚潘 ,  阿什温·穆鲁加潘·乔卡林加姆 ,  张代化 ,  乌马·斯利德哈尔 ,  丹尼尔·雷德菲尔德 ,  拉杰夫·巴贾 ,  奈格·B·帕蒂班德拉 ,  胡·T·额 ,  苏达卡尔·马杜苏达南

IPC: B24B37/24 ,  B29C64/112 ,  B33Y10/00 ,  B33Y40/10 ,  B33Y70/10 ,  B33Y80/00 ,  C09D11/101 ,  C09D11/104 ,  C09D11/107 ,  C09D11/322 ,  C09K3/14 ,  B29K33/00 ,  B29K509/02 ,  B29L31/00

Abstract: 用于抛光垫的增材制造的配方、系统与方法。配方包括单体、分散剂与纳米颗粒。制备配方的方法包括以下步骤：将是聚酯衍生物的分散剂添加至单体、将金属‑氧化物纳米颗粒添加至单体并使具有纳米颗粒与分散剂的单体接受声波处理以将纳米颗粒分散在单体中。

公开(公告)号：CN114502324B

公开(公告)日：2024-05-03

申请号：CN202080069546.6

申请日：2020-08-18

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 骆英东 ,  斯瓦帕基亚·甘纳塔皮亚潘 ,  阿什温·穆鲁加潘·乔卡林加姆 ,  张代化 ,  乌马·斯利德哈尔 ,  丹尼尔·雷德菲尔德 ,  拉杰夫·巴贾 ,  奈格·B·帕蒂班德拉 ,  胡·T·额 ,  苏达卡尔·马杜苏达南

IPC: B24B37/24 ,  B29C64/112 ,  B33Y10/00 ,  B33Y40/10 ,  B33Y70/10 ,  B33Y80/00 ,  C09D11/101 ,  C09D11/104 ,  C09D11/107 ,  C09D11/322 ,  C09K3/14 ,  B29K33/00 ,  B29K509/02 ,  B29L31/00

Abstract: 用于抛光垫的增材制造的配方、系统与方法。配方包括单体、分散剂与纳米颗粒。制备配方的方法包括以下步骤：将是聚酯衍生物的分散剂添加至单体、将金属‑氧化物纳米颗粒添加至单体并使具有纳米颗粒与分散剂的单体接受声波处理以将纳米颗粒分散在单体中。

公开(公告)号：CN113677481A

公开(公告)日：2021-11-19

申请号：CN202080027320.X

申请日：2020-03-10

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 乌马·斯利德哈尔 ,  斯瓦帕基亚·甘纳塔皮亚潘 ,  阿什温·乔卡林格 ,  骆英东 ,  丹尼尔·雷德菲尔德 ,  拉杰夫·巴贾 ,  奈格·B·帕蒂班德拉 ,  胡·T·额 ,  苏达卡尔·马杜苏达南

IPC: B24B37/24 ,  B24D18/00 ,  B29C64/112 ,  B33Y10/00 ,  B33Y70/00

Abstract: 提供了抛光制品以及制造在抛光工艺及清洁工艺中使用的抛光制品的方法。更具体而言，本文披露的实施方式涉及具有可调性质(诸如亲水性及zeta电位)的复合抛光制品。由UV可固化丙烯酸化学试剂构成的3D打印的化学机械平坦化(CMP)垫通常本质上是疏水的。此种疏水行为影响基于磨料的抛光浆料(诸如基于二氧化铈的浆料)的润湿性质。然而，为了增加平坦化及移除速率同时减少缺陷，亲水垫是较佳的。此外，在不同pH值下，期望垫的zeta电位(Zp)可在宽的条件范围中调谐。本公开内容的实施方式包括用阴离子添加剂来增加亲水性及调谐垫的Zp的方法以及使用这些方法产生的垫。

公开(公告)号：CN113677481B

公开(公告)日：2024-05-24

申请号：CN202080027320.X

申请日：2020-03-10

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 乌马·斯利德哈尔 ,  斯瓦帕基亚·甘纳塔皮亚潘 ,  阿什温·乔卡林格 ,  骆英东 ,  丹尼尔·雷德菲尔德 ,  拉杰夫·巴贾 ,  奈格·B·帕蒂班德拉 ,  胡·T·额 ,  苏达卡尔·马杜苏达南

IPC: B24B37/24 ,  B24D18/00 ,  B29C64/112 ,  B33Y10/00 ,  B33Y70/00

Abstract: 提供了抛光制品以及制造在抛光工艺及清洁工艺中使用的抛光制品的方法。更具体而言，本文披露的实施方式涉及具有可调性质(诸如亲水性及zeta电位)的复合抛光制品。由UV可固化丙烯酸化学试剂构成的3D打印的化学机械平坦化(CMP)垫通常本质上是疏水的。此种疏水行为影响基于磨料的抛光浆料(诸如基于二氧化铈的浆料)的润湿性质。然而，为了增加平坦化及移除速率同时减少缺陷，亲水垫是较佳的。此外，在不同pH值下，期望垫的zeta电位(Zp)可在宽的条件范围中调谐。本公开内容的实施方式包括用阴离子添加剂来增加亲水性及调谐垫的Zp的方法以及使用这些方法产生的垫。

公开(公告)号：CN117545593A

公开(公告)日：2024-02-09

申请号：CN202280041480.9

申请日：2022-01-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 斯瓦帕基亚·甘纳塔皮亚潘 ,  乌马·斯利德哈尔 ,  骆英东 ,  阿什温·乔卡林格 ,  马尤·亚玛木拉 ,  塞巴斯蒂安·戴维·罗索 ,  丹尼尔·雷德菲尔德 ,  拉杰夫·巴贾 ,  奈格·B·帕蒂班德拉 ,  浩·T·黃 ,  苏达卡尔·马杜苏达南

IPC: B24D11/00

Abstract: 本文中的实施方式大体关于抛光垫及形成抛光垫的方法。一种形成抛光垫的方法包括(a)根据预定的液滴分配图案，将预聚物组成物的液滴及牺牲材料组成物的液滴分配至先前已形成的打印层的表面上。所述方法包括(b)至少部分地固化预聚物组成物的已分配液滴以形成打印层。该方法包括(c)依序重复(a)及(b)以形成其中形成有多个孔特征的抛光层。预聚物组成物包括多官能丙烯酸酯组分。包括多官能丙烯酸酯组分的预聚物组成物的已分配液滴在暴露于第一剂量的电磁辐射时的固化速率大于不具有多官能丙烯酸酯组分的预聚物组成物在暴露于相同第一剂量的电磁辐射时的固化速率。