公开(公告)号：CN107429393A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201580054256.3

申请日：2015-09-17

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 崔安青 ,  法鲁克·京格尔 ,  吴典晔 ,  维卡斯·詹格拉 ,  穆罕默德·M·拉希德 ,  唐薇 ,  杨义雄 ,  枭雄·袁 ,  夫景浩 ,  斯里尼瓦斯·甘迪科塔 ,  雨·常 ,  威廉·W·光

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  H01J37/32

Abstract: 本文提供用于清洁原子层沉积腔室的方法及设备。在一些实施方式中，腔室盖组件包含：外壳，外壳围绕中央通道，中央通道沿着中心轴延伸且具有上部分及下部分；盖板，盖板耦接至外壳且具有轮廓底表面，轮廓底表面从中央开口向下及向外延伸至盖板的周边部分，中央开口耦接至中央通道的下部分；第一加热元件，第一加热元件加热所述中央通道；第二加热元件，第二加热元件加热盖板的底表面；远程等离子体源，远程等离子体源流体地耦接至中央通道；及隔离套管，隔离套管耦接在远程等离子体源与外壳之间，其中隔离套管具有内通道，内通道延伸穿过隔离套管以流体地耦接远程等离子体源及中央通道。

公开(公告)号：CN107429393B

公开(公告)日：2020-07-03

申请号：CN201580054256.3

申请日：2015-09-17

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 崔安青 ,  法鲁克·京格尔 ,  吴典晔 ,  维卡斯·詹格拉 ,  穆罕默德·M·拉希德 ,  唐薇 ,  杨义雄 ,  枭雄·袁 ,  夫景浩 ,  斯里尼瓦斯·甘迪科塔 ,  雨·常 ,  威廉·W·光

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  H01J37/32

Abstract: 本文提供用于清洁原子层沉积腔室的方法及设备。在一些实施方式中，腔室盖组件包含：外壳，外壳围绕中央通道，中央通道沿着中心轴延伸且具有上部分及下部分；盖板，盖板耦接至外壳且具有轮廓底表面，轮廓底表面从中央开口向下及向外延伸至盖板的周边部分，中央开口耦接至中央通道的下部分；第一加热元件，第一加热元件加热所述中央通道；第二加热元件，第二加热元件加热盖板的底表面；远程等离子体源，远程等离子体源流体地耦接至中央通道；及隔离套管，隔离套管耦接在远程等离子体源与外壳之间，其中隔离套管具有内通道，内通道延伸穿过隔离套管以流体地耦接远程等离子体源及中央通道。