公开(公告)号：CN109689295A

公开(公告)日：2019-04-26

申请号：CN201780051335.8

申请日：2017-09-08

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 黄祖滨 ,  斯蒂芬·A·威尔斯 ,  拉梅什·戈帕兰 ,  甘加达尔·希拉瓦特 ,  西蒙·雅维伯格

IPC: B24B37/32 ,  B24B37/005 ,  B24B49/00 ,  B24B57/02 ,  H01L21/306

CPC classification number: B24B37/32 ,  B24B37/042 ,  B24B37/046 ,  B24B37/34 ,  G01H1/00 ,  G01H11/06 ,  G08C17/02 ,  G08C2201/50 ,  H04Q9/00 ,  H04Q2209/43 ,  H04Q2209/47 ,  H04Q2209/88

Abstract: 本公开内容的实施方式总体涉及基板的化学机械抛光(CMP)。在一个实施方式中，本文公开了用于CMP设备的承载头。承载头包括主体、支撑环和传感器组件。支撑环耦接至主体。传感器组件至少部分地定位于主体中。传感器组件包括发射器、天线和振动传感器。发射器具有第一端和第二端。天线耦接至发射器的第一端。振动传感器耦接至第二端。振动传感器经配置以检测化学机械过程期间相对于承载头的径向轴、方位轴和角轴的振动。

公开(公告)号：CN109689295B

公开(公告)日：2021-08-06

申请号：CN201780051335.8

申请日：2017-09-08

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 黄祖滨 ,  斯蒂芬·A·威尔斯 ,  拉梅什·戈帕兰 ,  甘加达尔·希拉瓦特 ,  西蒙·雅维伯格

IPC: B24B37/32 ,  B24B37/005 ,  B24B49/00 ,  B24B57/02 ,  H01L21/306

Abstract: 本公开内容的实施方式总体涉及基板的化学机械抛光(CMP)。在一个实施方式中，本文公开了用于CMP设备的承载头。承载头包括主体、支撑环和传感器组件。支撑环耦接至主体。传感器组件至少部分地定位于主体中。传感器组件包括发射器、天线和振动传感器。发射器具有第一端和第二端。天线耦接至发射器的第一端。振动传感器耦接至第二端。振动传感器经配置以检测化学机械过程期间相对于承载头的径向轴、方位轴和角轴的振动。