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公开(公告)号:CN116569105A
公开(公告)日:2023-08-08
申请号:CN202180082465.4
申请日:2021-11-16
Applicant: 应用材料公司
IPC: G03F7/004
Abstract: 本公开内容的实施方式一般涉及压印组成物和材料和用于纳米压印平版印刷术(NIL)的相关处理。在一个或多个实施方式中,提供了一种压印组成物,并且该压印组成物包含多个钝化纳米颗粒、一种或多种溶剂、表面配位体、添加剂和丙烯酸酯。每一个钝化纳米颗粒含有核心和一个或多个壳层,其中该核心包含一种或多种金属氧化物并且该壳层包含一种或多种钝化材料。该壳层的钝化材料包含一种或多种原子层沉积(ALD)材料、一种或多种嵌段共聚物,或一种或多种含硅化合物。
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公开(公告)号:CN116829991A
公开(公告)日:2023-09-29
申请号:CN202180093415.6
申请日:2021-11-11
Applicant: 应用材料公司
Inventor: 卡尔·J·阿姆斯特朗 , 大野贤一 , 阿列克谢·阿迪琳·波蒂洛·里维拉 , 安德鲁•塞巴洛斯 , 拉米•胡拉尼 , 布莱恩·亚历山大·科恩
IPC: G02B5/08
Abstract: 本发明的实施方式总体涉及经封装光学装置及用于制造经封装光学装置的方法。在一或多个实施方式中,用于封装光学装置的方法包括在基板上沉积金属银层、在金属银层上沉积阻挡层,其中阻挡层含有氮化硅、金属元素、金属氮化物、或前述物的任何组合、及在阻挡层上沉积含有氧化硅的封装层。
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