公开(公告)号：CN108026628A

公开(公告)日：2018-05-11

申请号：CN201580083059.4

申请日：2015-09-15

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 方贵平 ,  黄曦 ,  布瑞恩·E.拉塞特 ,  金时经 ,  迪特尔·哈斯

IPC: C23C14/04

CPC classification number: C23C14/24 ,  C23C14/042 ,  C23F1/02 ,  C23F1/28 ,  C25D1/08 ,  C25F1/02 ,  H01L51/0011

Abstract: 一种阴影掩模(200,300,400,500)包括：框架(210)，由金属材料制成，该金属材料具有低于或等于约14微米/米/摄氏度的热膨胀系数；以及一或多个掩模图案(302,402,502)，耦接该框架(210)，该一或多个掩模图案包括第一金属材料与第二金属材料，该第二金属材料有别于该第一金属材料，且该一或多个掩模图案具有多个开口(215,318,345,425,435,545,552)，该多个开口形成于该一或多个掩模图案中。还提供了阴影掩模(200,300,400,500)和形成阴影掩模(200,300,400,500)的方法。

公开(公告)号：CN108026628B

公开(公告)日：2020-09-25

申请号：CN201580083059.4

申请日：2015-09-15

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 方贵平 ,  黄曦 ,  布瑞恩·E.拉塞特 ,  金时经 ,  迪特尔·哈斯

IPC: C23C14/04

Abstract: 一种阴影掩模(200,300,400,500)包括：框架(210)，由金属材料制成，该金属材料具有低于或等于约14微米/米/摄氏度的热膨胀系数；以及一或多个掩模图案(302,402,502)，耦接该框架(210)，该一或多个掩模图案包括第一金属材料与第二金属材料，该第二金属材料有别于该第一金属材料，且该一或多个掩模图案具有多个开口(215,318,345,425,435,545,552)，该多个开口形成于该一或多个掩模图案中。还提供了阴影掩模(200,300,400,500)和形成阴影掩模(200,300,400,500)的方法。