基座轴的真空泵吸
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100437893C

    公开(公告)日:2008-11-26

    申请号:CN02815295.6

    申请日:2002-07-31

    IPC分类号: H01L21/00 H01L21/68

    CPC分类号: H01L21/6838

    摘要: 在此所提供的是一种提高在将材料膜沉积到衬底的过程中所使用的基座的支撑板的平面度的方法,包括下列步骤:将附装到所述支撑板的下表面并与所述支撑板的下表面对接的轴的中空芯中的压力减小到低于大气压的水平;以及将包括所述基座的沉积室中的压力减小到将材料膜沉积到所述衬底上所要求的水平,其中作用于所述支撑板的下表面上的所述轴中空芯中的减小压力和作用于所述支撑板的上表面上的所述沉积室中的减小压力的组合由此来提高所述基座的所述支撑板的平面度。还提供了基座和将膜沉积到被固定至本发明的基座上的衬底上的方法。

    基座轴的真空泵吸
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1539158A

    公开(公告)日:2004-10-20

    申请号:CN02815295.6

    申请日:2002-07-31

    IPC分类号: H01L21/00

    CPC分类号: H01L21/6838

    摘要: 在此所提供的是一种提高在将材料膜沉积到衬底的过程中所使用的基座的支撑板的平面度的方法,包括下列步骤:将轴的中空芯中的压力减小到低于大气压的水平;以及将沉积室中的压力减小到将材料膜沉积到衬底上所要求的水平,其中在轴的中空芯中的压力作用于支撑板的下表面上,该下表面被连接到轴且与轴的中空芯相对接,沉积室中的压力作用于支撑板的适于支撑衬底的上表面上,由此来提高平面度。还提供了基座和将膜沉积到被固定至本发明的基座上的衬底上的方法。

    一种屏蔽框架组件
    7.
    实用新型

    公开(公告)号:CN200996043Y

    公开(公告)日:2007-12-26

    申请号:CN200590000024.1

    申请日:2005-07-15

    IPC分类号: C23C16/04 G03F1/16 C23C14/04

    摘要: 本实用新型提供在衬底处理过程中掩模大面积衬底的多个部分。提供了一种包括屏蔽框架以及一个或多个掩模面板的屏蔽框架组件。该屏蔽框架组件形成多个处理窗孔,该处理窗孔在大面积衬底上限定多个处理区域。