光学装置计量系统与相关方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116615676A

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN202180083988.0

    申请日:2021-11-23

    Abstract: 提供一种光学装置计量方法。该方法包括:在第一时间段期间将第一类光提供至第一光学装置中;在第一时间段期间测量从顶表面或底表面上的第一位置透射的第一类光的量;在发生于第一时间段之后的第二时间段期间用光学吸收材料的第一涂层涂布一或多个边缘中的一边缘的至少一部分;在发生于第二时间段之后的第三时间段期间将第一类光提供至第一光学装置中;及在第三时间段期间测量从顶表面或底表面上的第一位置透射的第一类光的量。

    用于光刻胶层中场引导酸轮廓控制的设备

    公开(公告)号:CN116610008A

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN202310643944.X

    申请日:2017-11-07

    Abstract: 本文描述的实施方式涉及用于处理基板的设备和方法。更特定地,提供了一种具有可移动电极的处理腔室,可移动电极用于在填充有流体的处理容积内产生平行场。在一个实施方式中,处理腔室的长轴线垂直地定向,且基板支撑件与沿着处理腔室的长轴线延伸的多个可移动电极相对设置。在某些实施方式中,基板支撑件是电浮动的且能够在处理基板期间围绕处理腔室的短轴线旋转。

    用于AR计量工具的照射系统
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116569028A

    公开(公告)日:2023-08-08

    申请号:CN202180082825.0

    申请日:2021-11-23

    Abstract: 本文中所述实施方式提供测量系统的光引擎和使用这些光引擎的方法。该测量系统包括能操作以照射光学装置的第一光栅的光引擎。该光引擎通过来自光引擎的光投射图案。该光引擎向该第一光栅投射图案使得可从一个或多个影像提取计量度量,该一个或多个影像由该测量系统的检测器所捕捉。这些计量度量通过处理该影像而被提取。这些计量度量确定该光学装置是否符合影像质量标准。

    纳米压印压模
    5.
    发明公开
    纳米压印压模 审中-实审

    公开(公告)号:CN116323475A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202180066177.X

    申请日:2021-06-17

    Abstract: 一种用于从主模板压模(stamp)制造纳米压印平版印刷术压模的设备,包括经配置成选择性地将压模背衬材料固定到其上的压模夹盘、经配置为支撑主模板压模的主夹盘,主模板压模包括在其上主图案,主夹盘经配置成支撑主模板压模,主模板压模与选择性地固定到压模夹盘上时的压模背衬材料呈面对关系,其中主模板压模包括在主图案上和中的电磁能量可固化材料,且压模夹盘经配置成及经布置成将其上的背衬材料的一部分定位成与其间隔开并与电磁能量可固化材料接触,且压模夹盘进一步经配置成将与能量可固化材料接触的背衬材料的该部分定位成,在能量可固化材料固化后,与压模夹盘接触。

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