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公开(公告)号:CN106415785B
公开(公告)日:2020-06-23
申请号:CN201580027248.X
申请日:2015-05-14
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/02 , H01L21/203
Abstract: 本发明提供用于改良的离子过滤的方法和设备的实施方式。在一些实施方式中,基板处理腔室包括:腔室主体和腔室盖,腔室盖安置在腔室主体上,界定腔室主体内于盖下方的处理区域;准直器,安置在处理区域中;电源,耦接至准直器;以及第一组磁体,所述第一组磁体在腔室主体周围安置在准直器上方,和第二组磁体,所述第二组磁体在腔室主体周围安置在准直器下方,所述两组磁体一起产生导引磁场,所述导引磁场大体上垂直于准直器。
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公开(公告)号:CN111755322B
公开(公告)日:2025-02-25
申请号:CN202010445713.4
申请日:2015-05-14
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/02 , H01L21/285 , H01L21/67 , C23C14/35
Abstract: 本发明提供用于改良的离子过滤的方法和设备的实施方式。在一些实施方式中,基板处理腔室包括:腔室主体和腔室盖,腔室盖安置在腔室主体上,界定腔室主体内于盖下方的处理区域;准直器,安置在处理区域中;电源,耦接至准直器;以及第一组磁体,所述第一组磁体在腔室主体周围安置在准直器上方,和第二组磁体,所述第二组磁体在腔室主体周围安置在准直器下方,所述两组磁体一起产生导引磁场,所述导引磁场大体上垂直于准直器。
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公开(公告)号:CN111755322A
公开(公告)日:2020-10-09
申请号:CN202010445713.4
申请日:2015-05-14
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/02 , H01L21/285 , H01L21/67 , C23C14/35
Abstract: 本发明提供用于改良的离子过滤的方法和设备的实施方式。在一些实施方式中,基板处理腔室包括:腔室主体和腔室盖,腔室盖安置在腔室主体上,界定腔室主体内于盖下方的处理区域;准直器,安置在处理区域中;电源,耦接至准直器;以及第一组磁体,所述第一组磁体在腔室主体周围安置在准直器上方,和第二组磁体,所述第二组磁体在腔室主体周围安置在准直器下方,所述两组磁体一起产生导引磁场,所述导引磁场大体上垂直于准直器。
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公开(公告)号:CN106415785A
公开(公告)日:2017-02-15
申请号:CN201580027248.X
申请日:2015-05-14
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/02 , H01L21/203
Abstract: 本发明提供用于改良的离子过滤的方法和设备的实施方式。在一些实施方式中,基板处理腔室包括:腔室主体和腔室盖,腔室盖安置在腔室主体上,界定腔室主体内于盖下方的处理区域;准直器,安置在处理区域中;电源,耦接至准直器;以及第一组磁体,所述第一组磁体在腔室主体周围安置在准直器上方,和第二组磁体,所述第二组磁体在腔室主体周围安置在准直器下方,所述两组磁体一起产生导引磁场,所述导引磁场大体上垂直于准直器。
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