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公开(公告)号:CN101358338B
公开(公告)日:2012-05-16
申请号:CN200810131215.1
申请日:2008-07-30
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/54
CPC classification number: C23C16/4586 , C23C16/4584 , Y10T279/11
Abstract: 本发明提供一种轴对称和均匀热分布的真空吸附加热器。在一些实施例中,一种真空吸盘包括:主体,具有用于在其上支撑衬底的支撑表面;多个轴对称布置的沟槽,形成于所述支撑表面中,所述沟槽中的至少一些相交;以及穿过所述主体并在所述沟槽内形成的多个吸附孔,所述吸附孔用于在操作期间将所述沟槽流体耦合到真空源,其中,所述吸附孔布置在所述沟槽的非相交部分中。
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公开(公告)号:CN101358338A
公开(公告)日:2009-02-04
申请号:CN200810131215.1
申请日:2008-07-30
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/54
CPC classification number: C23C16/4586 , C23C16/4584 , Y10T279/11
Abstract: 本发明提供一种轴对称和均匀热分布的真空吸附加热器。在一些实施例中,一种真空吸盘包括:主体,具有用于在其上支撑衬底的支撑表面;多个轴对称布置的沟槽,形成于所述支撑表面中,所述沟槽中的至少一些相交;以及穿过所述主体并在所述沟槽内形成的多个吸附孔,所述吸附孔用于在操作期间将所述沟槽流体耦合到真空源,其中,所述吸附孔布置在所述沟槽的非相交部分中。
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