公开(公告)号：CN103003926A

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：CN201180034795.2

申请日：2011-06-23

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 约翰·C·福斯特 ,  何泰宏 ,  穆拉利·K·纳拉辛汉 ,  傅新宇 ,  孙达雷吉恩·阿尔温德 ,  郭晓曦

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/321 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32422

Abstract: 本文公开用于处理基板的设备。在某些实施例中，基板处理系统可包括处理腔室、基板支撑件及等离子体过滤器。该处理腔室具有用来接收等离子体的第一空间以及用来处理基板的第二空间。该基板支撑件设置于第二空间中。该等离子体过滤器设置于处理腔室中并且在第一空间及第二空间之间，使得形成在第一空间的等离子体可仅从第一空间经由等离子体过滤器而流进第二空间。在某些实施例中，基板处理系统包括耦接至处理腔室的处理套件，其中等离子体过滤器设置于处理套件中。

公开(公告)号：CN103003926B

公开(公告)日：2016-05-25

申请号：CN201180034795.2

申请日：2011-06-23

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 约翰·C·福斯特 ,  何泰宏 ,  穆拉利·K·纳拉辛汉 ,  傅新宇 ,  孙达雷吉恩·阿尔温德 ,  郭晓曦

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01J37/321 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32422

Abstract: 本文公开用于处理基板的设备。在某些实施例中，基板处理系统可包括处理腔室、基板支撑件及等离子体过滤器。该处理腔室具有用来接收等离子体的第一空间以及用来处理基板的第二空间。该基板支撑件设置于第二空间中。该等离子体过滤器设置于处理腔室中并且在第一空间及第二空间之间，使得形成在第一空间的等离子体可仅从第一空间经由等离子体过滤器而流进第二空间。在某些实施例中，基板处理系统包括耦接至处理腔室的处理套件，其中等离子体过滤器设置于处理套件中。