一种含钛PVD氧化复合涂层及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN116676565A

    公开(公告)日:2023-09-01

    申请号:CN202310590828.6

    申请日:2023-05-23

    IPC分类号: C23C14/16 C23C14/58 C23C14/54

    摘要: 本发明公开了一种含钛PVD氧化复合涂层及其制备方法和应用,该制备方法包括以下步骤:S1.在基底模具钢上制备含钛PVD涂层;S2.在常压条件下,通入惰性气体,加热至温度为300~550℃,再通入氧气和惰性气体并控制氧气/惰性气体流量比为0.3~1.0,对含钛PVD涂层进行渗氧氧化,制备含钛PVD氧化复合涂层。本发明含钛PVD氧化复合涂层的制备方法通过在常压条件下,控制温度以及氧气/惰性气体流量比,提高了氧化后含钛PVD涂层表面氧化膜的致密性,也提高了含钛PVD氧化复合涂层对基底模具钢的结合力,还增强了含钛PVD氧化复合涂层的耐磨和抗粘结性能。

    一种TiN-TiN/TiSiN-TiSiN纳米多层梯度复合涂层及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN115418608A

    公开(公告)日:2022-12-02

    申请号:CN202211035223.2

    申请日:2022-08-26

    IPC分类号: C23C14/06 C23C14/32 C23C14/54

    摘要: 本发明公开了一种TiN‑TiN/TiSiN‑TiSiN纳米多层梯度复合涂层及其制备方法和应用,该涂层,包括依次连接的第一TiN层、TiN/TiSiN纳米多层和第一TiSiN层,其中,所述第一TiN层为底层,底层与基体连接;所述TiN/TiSiN纳米多层为由第二TiN层与第二TiSiN层交替沉积组成的多层结构,所述多层结构为至少100层,所述TiN/TiSiN纳米多层的厚度为1.0~7.0μm。本发明的TiN‑TiN/TiSiN‑TiSiN纳米多层梯度复合涂层具有较好的韧性,其与基体之间的结合力也较强,有利于拓展该涂层的应用领域和工业化生产规模。

    一种基于电弧离子镀高通量制备氮化物复合涂层的方法

    公开(公告)号:CN112746246B

    公开(公告)日:2022-06-24

    申请号:CN202011446825.8

    申请日:2020-12-11

    IPC分类号: C23C14/32 C23C14/02 C23C14/06

    摘要: 本发明涉及一种基于电弧离子镀高通量制备氮化物复合涂层的方法。所述的高通量制备技术为基于高通量制备平台,取一组靶列从上至下分别安装至少三个异种靶材,于另一组靶列安装等量的同种AlCr靶。先开启第二靶列,沉积AlCrN打底层,后开启第一靶列沉积成分连续变化的涂层样品。所述的高通量制备平台是基于工业用的电弧离子镀装备,采用的靶材阵列由上下至少3个弧靶组成,且弧靶成直线排列,每个弧靶由单独的弧电源控制;每个靶可以是单质金属靶或多元合金靶。本发明的高通量制备技术,可以单次制备连续成分和结构的涂层,结合硬度、热稳定性及抗高温氧化性能,可以快速筛选出目标涂层,提高研发效率。

    一种5G金属/陶瓷复合电路板及其制备方法

    公开(公告)号:CN110565056B

    公开(公告)日:2021-03-30

    申请号:CN201910887577.1

    申请日:2019-09-19

    摘要: 本发明涉及一种5G金属/陶瓷复合电路板及其制备方法。所述制备方法包括如下步骤:利用PVD技术在预置孔的金属基板上交替沉积金属层和陶瓷层,即得所述5G金属/陶瓷复合电路板。本发明通过的金属/陶瓷复合电路板制备方法避免了金属/陶瓷复合电路板常规工艺(陶瓷/金属热扩散连接法)复杂、成品率低、价格昂贵、效率低、工艺不成熟等难点。此外,本发明的制备方法选用自带孔的金属基板,避免了陶瓷基板激光/机械复合钻孔成品率低、工作量大、钻孔技术不成熟的问题。本发明利用基于物理气相沉积技术与模板技术组合技术沉积金属层和陶瓷层,得到的金属/陶瓷复合电路板中各层的结合强度高,不易剥离,且工艺简单。

    一种基于激光3D打印的氧化铝增强合金性能的方法

    公开(公告)号:CN110777276A

    公开(公告)日:2020-02-11

    申请号:CN201911012960.9

    申请日:2019-10-23

    摘要: 本发明属于增材制造技术领域,具体涉及一种基于激光3D打印的氧化铝增强合金性能的方法。该方法创造性的利用激光3D打印技术在打印过程中形成的局部高温,促进铝和氧化铁发生原位置换反应,进一步限定铝粉末、氧化铁粉末的送粉量比为1:(2~5),粒径为20~100μm,生成的细小纳米级氧化铝随着合金粉末沉淀过程的推进,可以均匀分布在合金体系中,解决了纳米相团聚上浮的问题,显著增强了合金的力学性能和质量均一性,且操作简单,适用于大规模工业化生产。

    一种W-N纳米复合结构小径刀涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN109267005A

    公开(公告)日:2019-01-25

    申请号:CN201811073066.8

    申请日:2018-09-14

    摘要: 一种W-N纳米复合结构小径刀涂层及其制备方法,涉及材料表面加工领域,该涂层的成分按原子百分比为钨80~100at.%和氮0~20at.%。该制备方法首先将硬质合金小径刀超声清洗,再利用电弧增强型辉光放电技术对其表面进行等离子体刻蚀;而后腔室内通入N2和Ar,在一定基体负偏压、沉积温度、溅射靶功率等条件下,进行磁控溅射镀膜,得W-N纳米复合结构涂层。本发明采用磁控溅射技术对基体进行镀膜处理,沉积W-N纳米复合结构涂层,该涂层与刀具基体结合良好,实现小径刀表面硬度高、排屑性能好、能有效提高刀具的使用寿命和加工质量。

    一种ZrN涂层及其制备方法和应用
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117364019A

    公开(公告)日:2024-01-09

    申请号:CN202311135797.1

    申请日:2023-09-04

    摘要: 本发明公开了一种ZrN涂层及其制备方法和应用,属于涂层技术领域。该制备方法包括以下步骤:S1.在金属基衬底表面沉积PVD氮化物涂层;S2.渗锆处理:将真空炉内的炉压抽至小于等于200Pa,然后加热至锆基非晶坯料完全熔化至熔体,然后将PVD氮化物涂层热浸入锆基非晶熔体中,保温一段时间,然后取出,制备ZrN涂层;其中,步骤S1中,所述PVD氮化物涂层的厚度为1~10μm;步骤S2中,锆基非晶熔体温度1000~1500℃,保温时间0.5~10h。本发明制备的ZrN涂层,ZrN涂层的厚度可达2μm以上,ZrN涂层优异的硬度、耐磨性、耐腐蚀性和导电性,可用作燃料电池双极板防护涂层及医疗器械涂层。

    一种AlCrTiSiWMoN高熵合金氮化物涂层及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN113235041A

    公开(公告)日:2021-08-10

    申请号:CN202110379890.1

    申请日:2021-04-08

    IPC分类号: C23C14/02 C23C14/06 C23C14/35

    摘要: 本发明公开了一种AlCrTiSiWMoN高熵合金氮化物涂层,由AlCrTiSiN打底层和AlCrTiSiWMoN工作层复合而成,AlCrTiSiN打底层增加涂层的热稳定性、承载能力和结合力,AlCrTiSiWMoN工作层中加入了W和Mo,不仅可提高涂层整体的结合力和红硬性,还在摩擦面形成自润滑的WO3和MoO3氧化产物,降低了涂层的摩擦系数,其润滑和减磨作用不仅降低涂层刀具工作层在切削时产生的切削热,而且提高了刀具切削寿命,有效解决了现有的高熵合金氮化物涂层的结合力和红硬性不佳,且摩擦系数过高的问题。