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公开(公告)号：CN112746246B
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202011446825.8
申请日：2020-12-11
申请人： 广东工业大学
摘要： 本发明涉及一种基于电弧离子镀高通量制备氮化物复合涂层的方法。所述的高通量制备技术为基于高通量制备平台，取一组靶列从上至下分别安装至少三个异种靶材，于另一组靶列安装等量的同种AlCr靶。先开启第二靶列，沉积AlCrN打底层，后开启第一靶列沉积成分连续变化的涂层样品。所述的高通量制备平台是基于工业用的电弧离子镀装备，采用的靶材阵列由上下至少3个弧靶组成，且弧靶成直线排列，每个弧靶由单独的弧电源控制；每个靶可以是单质金属靶或多元合金靶。本发明的高通量制备技术，可以单次制备连续成分和结构的涂层，结合硬度、热稳定性及抗高温氧化性能，可以快速筛选出目标涂层，提高研发效率。
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公开(公告)号：CN112689688A
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN201980057356.X
申请日：2019-10-15
申请人： 广东工业大学
摘要： 本发明公开一种钛合金和高温合金加工用的涂层刀具及其制备方法，所述涂层刀具的涂层为Me‑B‑N涂层，该钛合金和高温合金加工用的涂层刀具的制备方法，包括以下步骤：基体预处理步骤：将刀具进行清洗干燥后，送入腔室；腔室抽真空步骤：通过机械泵和分子泵抽真空；离子刻蚀步骤：向腔室内通入高纯Ar，保持腔室内加热器温度，加负偏压，对基体进行离子刻蚀，去除刀具表面的氧化皮和疏松层；沉积Me‑B‑N系涂层步骤：向腔室内连续通入高纯N2和高纯Ar，同时保持腔室内加热器温度恒定，基体加负偏压，采用磁控溅射技术或电弧等离子体技术，沉积具有一定厚度的Me‑B‑N系涂层；冷却取样步骤：开启炉体循环冷却系统，待腔室在真空状态下冷却后即可打开腔室，取出工件。
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公开(公告)号：CN109267005A
公开(公告)日：2019-01-25
申请号：CN201811073066.8
申请日：2018-09-14
申请人： 广东工业大学
摘要： 一种W-N纳米复合结构小径刀涂层及其制备方法，涉及材料表面加工领域，该涂层的成分按原子百分比为钨80～100at.%和氮0～20at.%。该制备方法首先将硬质合金小径刀超声清洗，再利用电弧增强型辉光放电技术对其表面进行等离子体刻蚀；而后腔室内通入N2和Ar，在一定基体负偏压、沉积温度、溅射靶功率等条件下，进行磁控溅射镀膜，得W-N纳米复合结构涂层。本发明采用磁控溅射技术对基体进行镀膜处理，沉积W-N纳米复合结构涂层，该涂层与刀具基体结合良好，实现小径刀表面硬度高、排屑性能好、能有效提高刀具的使用寿命和加工质量。
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公开(公告)号：CN112689688B
公开(公告)日：2022-09-20
申请号：CN201980057356.X
申请日：2019-10-15
申请人： 广东工业大学
摘要： 本发明公开一种钛合金和高温合金加工用的涂层刀具及其制备方法，所述涂层刀具的涂层为Me‑B‑N涂层，该钛合金和高温合金加工用的涂层刀具的制备方法，包括以下步骤：基体预处理步骤：将刀具进行清洗干燥后，送入腔室；腔室抽真空步骤：通过机械泵和分子泵抽真空；离子刻蚀步骤：向腔室内通入高纯Ar，保持腔室内加热器温度，加负偏压，对基体进行离子刻蚀，去除刀具表面的氧化皮和疏松层；沉积Me‑B‑N系涂层步骤：向腔室内连续通入高纯N2和高纯Ar，同时保持腔室内加热器温度恒定，基体加负偏压，采用磁控溅射技术或电弧等离子体技术，沉积具有一定厚度的Me‑B‑N系涂层；冷却取样步骤：开启炉体循环冷却系统，待腔室在真空状态下冷却后即可打开腔室，取出工件。
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公开(公告)号：CN113235041A
公开(公告)日：2021-08-10
申请号：CN202110379890.1
申请日：2021-04-08
申请人： 广东工业大学
摘要： 本发明公开了一种AlCrTiSiWMoN高熵合金氮化物涂层，由AlCrTiSiN打底层和AlCrTiSiWMoN工作层复合而成，AlCrTiSiN打底层增加涂层的热稳定性、承载能力和结合力，AlCrTiSiWMoN工作层中加入了W和Mo，不仅可提高涂层整体的结合力和红硬性，还在摩擦面形成自润滑的WO3和MoO3氧化产物，降低了涂层的摩擦系数，其润滑和减磨作用不仅降低涂层刀具工作层在切削时产生的切削热，而且提高了刀具切削寿命，有效解决了现有的高熵合金氮化物涂层的结合力和红硬性不佳，且摩擦系数过高的问题。
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公开(公告)号：CN112746246A
公开(公告)日：2021-05-04
申请号：CN202011446825.8
申请日：2020-12-11
申请人： 广东工业大学
摘要： 本发明涉及一种基于电弧离子镀高通量制备氮化物复合涂层的方法。所述的高通量制备技术为基于高通量制备平台，取一组靶列从上至下分别安装至少三个异种靶材，于另一组靶列安装等量的同种AlCr靶。先开启第二靶列，沉积AlCrN打底层，后开启第一靶列沉积成分连续变化的涂层样品。所述的高通量制备平台是基于工业用的电弧离子镀装备，采用的靶材阵列由上下至少3个弧靶组成，且弧靶成直线排列，每个弧靶由单独的弧电源控制；每个靶可以是单质金属靶或多元合金靶。本发明的高通量制备技术，可以单次制备连续成分和结构的涂层，结合硬度、热稳定性及抗高温氧化性能，可以快速筛选出目标涂层，提高研发效率。
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公开(公告)号：CN118438262A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202410607759.X
申请日：2024-05-16
申请人： 广东工业大学
摘要： 本发明涉及切削加工技术领域，具体涉及一种切削加工装置和切削加工方法，该装置包括切削组件，切削组件用于置入扫描电子显微镜的样品仓内；切削组件包括：三维纳米移动平台，刀具，刀具指向三维纳米移动平台上的待加工样品，三维力传感器，三维力传感器与刀具连接；机架，机架的底部与三维纳米移动平台安装连接，三维纳米移动平台的加工台面朝向上，机架的顶部与三维力传感器安装连接，刀具安装在三维力传感器上，刀具的刀头朝向加工台面，控制器，控制器与刀具和三维纳米移动平台连接，该切削加工装置能够在扫描电子显微镜内进行切削加工，实现切削加工和缺陷观察同步进行，有效地提高了缺陷观察的准确性，并且具有加工效率高的优点。
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公开(公告)号：CN113909609A
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN202111144680.0
申请日：2021-09-28
申请人： 广东工业大学
摘要： 本申请是关于一种非晶合金钎焊方法。通过将第一非晶合金和第二非晶合金对齐固定，并保证两块非晶合金之间存在着一条均匀缝隙，然后通过感应加热系统将焊接区域加热至过冷液相区，之后用非晶合金搅拌针在均匀缝隙中进行搅拌，直至焊接头出现停止搅拌，完成非晶合金的钎焊。本方案将焊接区域加热并维持在过冷液相区，避免非晶合金的晶化，充分利用非晶合金的超塑性，降低钎焊难度；同时用与非晶合金同一材质非晶合金搅拌针进行钎焊，可以避免异质搅拌针磨损脱落的材料对焊接头的污染，且可以避免搅拌过程中非晶合金搅拌针热累积产生的高温对材料性能的影响，保证焊缝处材料性能的一致性，进而使得非晶合金拥有稳定的性能。
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公开(公告)号：CN109267005B
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN201811073066.8
申请日：2018-09-14
申请人： 广东工业大学
摘要： 一种W‑N纳米复合结构小径刀涂层及其制备方法，涉及材料表面加工领域，该涂层的成分按原子百分比为钨80～100at.%和氮0～20at.%。该制备方法首先将硬质合金小径刀超声清洗，再利用电弧增强型辉光放电技术对其表面进行等离子体刻蚀；而后腔室内通入N2和Ar，在一定基体负偏压、沉积温度、溅射靶功率等条件下，进行磁控溅射镀膜，得W‑N纳米复合结构涂层。本发明采用磁控溅射技术对基体进行镀膜处理，沉积W‑N纳米复合结构涂层，该涂层与刀具基体结合良好，实现小径刀表面硬度高、排屑性能好、能有效提高刀具的使用寿命和加工质量。
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