一种超声电化学复合的晶片清洗装置及其清洗方法

    公开(公告)号:CN111092033B

    公开(公告)日:2024-12-03

    申请号:CN201911348340.2

    申请日:2019-12-24

    Abstract: 本发明涉及超精密加工的技术领域,更具体地,涉及一种超声电化学复合的晶片清洗装置及其清洗方法,包括壳体、晶片装夹组件、电化学清洗组件、超声组件以及驱动组件,晶片装夹组件与驱动组件连接,晶片装夹组件包括用于放置晶片的片槽以及安装于片槽两端的转轴,片槽悬空置于壳体内,转轴与壳体转动连接;电化学清洗组件包括阴极和阳极,阴极和阳极分别设于片槽的两侧;超声组件设于晶片装夹组件的下方。本发明结合超声振动作用和电化学电解作用进行清洗,微气泡的微射流作用于晶片表面使得污物层被分散、乳化、剥离,利用电极分解水产生具有氧化性极强的羟基自由基将有机污染物氧化为H2O和CO2,可显著提高清洗效率,且清洗过程不产生额外污染物。

    一种集群聚焦超声复合抛光方法及其装置

    公开(公告)号:CN118699885A

    公开(公告)日:2024-09-27

    申请号:CN202410887502.4

    申请日:2024-07-03

    Abstract: 本发明公开了一种集群聚焦超声复合抛光方法及其装置,具体地,在基于聚焦超声技术应用于医疗方面研究的基础上,提出了一种应用于抛光加工的集群聚焦超声复合抛光方法,该方法采用了非侵入式超声加工原理,将超声波聚焦在工件的抛光区域,能够有效地促进抛光过程中工件表面的加工过程,并且促进抛光液对工件抛光的性能。同时,结合抛光过程中大尺寸工件抛光不均匀的问题,本方案提出将聚焦超声集群形成一系列的聚焦区域,对不同的聚焦区域进行相应功率的超声聚焦,从而有效地控制工件不同区域的材料去除速率,最终获得无损伤层的高均匀抛光表面。

    一种电磁流变抛光用复合粒子的制备装置及制备方法

    公开(公告)号:CN111087931B

    公开(公告)日:2024-04-26

    申请号:CN201911410243.1

    申请日:2019-12-31

    Abstract: 本发明涉及精密加工的技术领域,更具体地,涉及一种电磁流变抛光用复合粒子的制备装置及制备方法,包括静电纺丝组件、粉碎组件及用于筛选得到带电粒子、复合粒子和不带电粒子的筛选组件,所述静电纺丝组件包括磁性粒子供应组件、聚合物供应组件以及纺丝组件,所述聚合物内含有磨料粒子、且所述聚合物包裹于磁性粒子外周,所述纺丝组件与磁性粒子供应组件、聚合物供应组件连通,所述粉碎组件包括电磁铁压块、第一驱动电机及设于电磁铁压块正下方的磨盘,所述电磁铁压块与第一驱动电机连接。本发明磨料粒子由游离状态变为固着状态,保证磨料粒子对工件的有效作用,同时减少颗粒之间相互作用的影响,可提高磨料粒子利用率,保证抛光效果的均匀性。

    一种磁场动态叠加的磁流变抛光装置及抛光方法

    公开(公告)号:CN113059406B

    公开(公告)日:2024-04-19

    申请号:CN202110286608.5

    申请日:2021-03-17

    Abstract: 本发明涉及超精密加工的技术领域,更具体地,涉及一种磁场动态叠加的磁流变抛光装置及抛光方法,包括机床、设于机床顶部的机架、第一驱动组件、第二驱动组件、动磁场发生组件、工件安装组件和抛光盘组件,动磁场发生组件、抛光盘组件和工件安装组件均安装于机架,抛光盘组件内盛有磁流变抛光液,工件安装组件可伸入抛光盘组件内,动磁场发生组件包括与第一驱动组件连接的旋转组件、设于旋转组件顶部的斜置磁极和中心磁极,斜置磁极倾斜设置,斜置磁极和中心磁极均产生磁场且共同作用于磁流变抛光液。本发明通过斜置磁极产生具有动态均匀性的动态磁场,实现磁性链串重新排布而实现磨料的更新和自锐,且实现对工件均匀化、超光滑平面抛光。

    一种水稻种子定量出料机构

    公开(公告)号:CN110558002B

    公开(公告)日:2024-01-05

    申请号:CN201910811163.0

    申请日:2019-08-28

    Abstract: 本发明是一种水稻种子定量出料机构,包括有容种轮、端面轴承、内轮、外壳,容种轮沿圆周分布有若干个带种齿,其中容种轮内装设有内轮,内轮的端面与容种轮的内侧接触面装设有端面轴承,容种轮及内轮的外侧装设有外壳,带种齿上设有容种槽,内轮内设有与容种槽相通的真空通道和压力通道,真空通道与抽真空装置连接,压力通道和压力装置连接,外壳的底部设有与带种齿上所设容种槽相通的出料口,容种轮由驱动装置驱动,驱动装置、抽真空装置及压力装置与控制装置电连接。本发明通过从进料口吸入水稻种子,经过容种轮转动,在出料口吹气出料,多余种子由收纳斗收集,满足水稻种子膜对精准定量的需求。

    一种动态磁场磁流变抛光装置

    公开(公告)号:CN107617933B

    公开(公告)日:2023-05-05

    申请号:CN201711080305.8

    申请日:2017-11-06

    Abstract: 本发明公开了一种动态磁场磁流变抛光装置,包括:外壳,其内部设有内齿轮,其中部设有中心轴承套筒;动力输入机构,其包括输入轴,输入轴通过第一轴承连接在中心轴承套筒内壁上,输入轴的外壁上设有中心齿轮;转动机构,其包括轴、轴套筒、行星齿轮和轴承套筒保持架以及轴保持架,轴下端设有圆柱体永磁铁,轴套筒下端设有抛光盘,抛光盘的下表面设有沟槽。其中在动态磁场的作用下,可以迫使无磨料更新的磁流变液抛光垫转变成有磨料的自锐和形状的实时恢复的抛光垫。此外提高了抛光加工的均匀性和效率,在一个动力输入的情况下实现了抛光盘的公转和自转、动态磁场和流体动压力的形成多重功,无需另外加电机驱动磁极旋转,装置结构紧凑。

    一种曲率自适应集群磁流变抛光自由曲面的方法及装置

    公开(公告)号:CN113579987B

    公开(公告)日:2022-10-04

    申请号:CN202110838320.4

    申请日:2021-07-23

    Abstract: 本发明涉及超精密加工技术领域,更具体地,涉及一种曲率自适应集群磁流变抛光自由曲面的方法及装置。其中,抛光方法以下步骤:将待加工工件置于旋转平台组件内,使各个抛光头位于待加工工件上方;将磁流变抛光液倒入旋转平台组件中;使各个抛光头实现同步转动;通过旋转平台组件使待加工工件进行旋转,开始抛光;在抛光过程中,使抛光头上下移动进行恒压抛光;y方向直线导轨组件带动旋转平台组件进行y方向的水平低速往复移动,使待加工工件得到均匀抛光。本发明可完好地实现抛光自由曲面的要求,在提高加工效率的基础上保证恒力加工,减轻加工的不均匀性,非常适合对自由曲面的光学元件、半导体、陶瓷等材料进行高效率超精密抛光。

    一种超光滑平坦化抛光方法及装置

    公开(公告)号:CN113305650B

    公开(公告)日:2022-07-01

    申请号:CN202110673642.8

    申请日:2021-06-17

    Abstract: 本发明涉及一种超光滑平坦化抛光方法及装置。包括基座、Z轴驱动机构、公转驱动机构、自转驱动机构、动磁场发生机构、偏摆驱动机构、以及用于盛装磁流变液的抛光盘;Z轴驱动机构安装于基座上,Z轴驱动机构的输出端与公转驱动机构连接,公转驱动机构的输出端与自转驱动机构连接,自转驱动机构的输出端设有用于装夹工件的装夹盘;抛光盘固定于基座上,且位于公转驱动机构和自转驱动机构的下方;动磁场发生机构设于抛光盘的下方,且在抛光盘内形成动态磁场;偏摆驱动机构安装于基座上,动磁场发生机构与偏摆驱动机构的输出端连接。本发明有效避免工件中心位置存在线速度零点导致工件中心与边缘存在加工效果差异的问题。

    一种印刷线路板短路激光修复方法及设备

    公开(公告)号:CN114521061A

    公开(公告)日:2022-05-20

    申请号:CN202210070927.7

    申请日:2022-01-21

    Abstract: 本发明涉及印刷线路板技术领域,尤其涉及一种印刷线路板短路激光修复方法及设备。一种印刷线路板短路激光修复方法包括以下步骤:步骤S1、获取样品的线路板的局部图像,锁定短路位置,确定待去除区域的大小、形状和位置;步骤S2、控制激光束的直径大小,使激光束的激光焦点聚焦于待去除区域的表面,且聚焦于待去除区域表面的光斑为小尺寸聚焦光斑。所述印刷线路板短路激光修复方法,可以充分避免修复加工后的局部铜层和导电产物的残留,大幅减少激光修复时对正常铜层的损伤及基材的损伤,解决了目前激光修复方法去除表面铜层时容易形成局部残留、容易造成基材高分子层的损伤、出现导电产物的残留导致修复失败的问题。

    一种磁性纳米颗粒的性能评估实验装置及方法

    公开(公告)号:CN114112809A

    公开(公告)日:2022-03-01

    申请号:CN202111342386.0

    申请日:2021-11-12

    Abstract: 本发明公开了一种磁性纳米颗粒的性能评估实验装置及方法,其中,一种磁性纳米颗粒的性能评估实验装置,包括实验台、运动控制机构、环回形磁路机构和试杯,运动控制机构可移动地安装于实验台,环回形磁路机构可拆卸地安装于实验台;运动控制机构包括结构相同的第一运动控制组件和第二运动控制组件,第一运动控制组件和第二运动控制组件对称地设置于试杯的两侧,且第一运动控制组件和第二运动控制组件可分别靠近和远离试杯。本技术方案提出的一种磁性纳米颗粒的性能评估实验装置及方法,有利于通过温控切削实验装置将与磁性纳米颗粒的产热功率有关的各项属性参数进行调节,从而对磁性纳米颗粒的性能进行有效评估,结构简单,性能可靠。

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