-
公开(公告)号：CN113305650A
公开(公告)日：2021-08-27
申请号：CN202110673642.8
申请日：2021-06-17
Applicant: 广东工业大学 , 广东纳诺格莱科技有限公司
IPC: B24B1/00 , B24B31/112 , B24B31/12 , B24B55/00 , H01L21/304
Abstract: 本发明涉及一种超光滑平坦化抛光方法及装置。包括基座、Z轴驱动机构、公转驱动机构、自转驱动机构、动磁场发生机构、偏摆驱动机构、以及用于盛装磁流变液的抛光盘；Z轴驱动机构安装于基座上，Z轴驱动机构的输出端与公转驱动机构连接，公转驱动机构的输出端与自转驱动机构连接，自转驱动机构的输出端设有用于装夹工件的装夹盘；抛光盘固定于基座上，且位于公转驱动机构和自转驱动机构的下方；动磁场发生机构设于抛光盘的下方，且在抛光盘内形成动态磁场；偏摆驱动机构安装于基座上，动磁场发生机构与偏摆驱动机构的输出端连接。本发明有效避免工件中心位置存在线速度零点导致工件中心与边缘存在加工效果差异的问题。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113059406A
公开(公告)日：2021-07-02
申请号：CN202110286608.5
申请日：2021-03-17
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本发明涉及超精密加工的技术领域，更具体地，涉及一种磁场动态叠加的磁流变抛光装置及抛光方法，包括机床、设于机床顶部的机架、第一驱动组件、第二驱动组件、动磁场发生组件、工件安装组件和抛光盘组件，动磁场发生组件、抛光盘组件和工件安装组件均安装于机架，抛光盘组件内盛有磁流变抛光液，工件安装组件可伸入抛光盘组件内，动磁场发生组件包括与第一驱动组件连接的旋转组件、设于旋转组件顶部的斜置磁极和中心磁极，斜置磁极倾斜设置，斜置磁极和中心磁极均产生磁场且共同作用于磁流变抛光液。本发明通过斜置磁极产生具有动态均匀性的动态磁场，实现磁性链串重新排布而实现磨料的更新和自锐，且实现对工件均匀化、超光滑平面抛光。
-
公开(公告)号：CN113059406B
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202110286608.5
申请日：2021-03-17
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本发明涉及超精密加工的技术领域，更具体地，涉及一种磁场动态叠加的磁流变抛光装置及抛光方法，包括机床、设于机床顶部的机架、第一驱动组件、第二驱动组件、动磁场发生组件、工件安装组件和抛光盘组件，动磁场发生组件、抛光盘组件和工件安装组件均安装于机架，抛光盘组件内盛有磁流变抛光液，工件安装组件可伸入抛光盘组件内，动磁场发生组件包括与第一驱动组件连接的旋转组件、设于旋转组件顶部的斜置磁极和中心磁极，斜置磁极倾斜设置，斜置磁极和中心磁极均产生磁场且共同作用于磁流变抛光液。本发明通过斜置磁极产生具有动态均匀性的动态磁场，实现磁性链串重新排布而实现磨料的更新和自锐，且实现对工件均匀化、超光滑平面抛光。
-
公开(公告)号：CN113305650B
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202110673642.8
申请日：2021-06-17
Applicant: 广东工业大学 , 广东纳诺格莱科技有限公司
IPC: B24B1/00 , B24B31/112 , B24B31/12 , B24B55/00 , H01L21/304
Abstract: 本发明涉及一种超光滑平坦化抛光方法及装置。包括基座、Z轴驱动机构、公转驱动机构、自转驱动机构、动磁场发生机构、偏摆驱动机构、以及用于盛装磁流变液的抛光盘；Z轴驱动机构安装于基座上，Z轴驱动机构的输出端与公转驱动机构连接，公转驱动机构的输出端与自转驱动机构连接，自转驱动机构的输出端设有用于装夹工件的装夹盘；抛光盘固定于基座上，且位于公转驱动机构和自转驱动机构的下方；动磁场发生机构设于抛光盘的下方，且在抛光盘内形成动态磁场；偏摆驱动机构安装于基座上，动磁场发生机构与偏摆驱动机构的输出端连接。本发明有效避免工件中心位置存在线速度零点导致工件中心与边缘存在加工效果差异的问题。
-
公开(公告)号：CN216151877U
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN202121357286.0
申请日：2021-06-17
Applicant: 广东工业大学 , 广东纳诺格莱科技有限公司
IPC: B24B1/00 , B24B31/112 , B24B31/12
Abstract: 本实用新型涉及一种用于磁流变抛光的加工装置。包括基座、磁场发生机构、偏摆驱动机构、以及用于盛装磁流变的抛光盘；抛光盘固定于基座上，磁场发生机构设于抛光盘的下方，且在抛光盘内形成动态磁场；偏摆驱动机构安装于基座上，磁场发生机构与偏摆驱动机构的输出端连接；在磁场发生机构上还设有用于限制磁场发生机构发生旋转的偏摆辅助机构。本实用新型通过设置偏摆驱动机构，使得磁铁安装偏心盘只做规律的偏摆运动而不进行整体的旋转，使得柔性抛光垫的形状不断回复；同时，该偏摆运动使得磁极仅仅进行小幅度的规律运动，使得在保持磁流变柔性抛光垫加工性能的同时对抛光盘盘面的磨损降到最小。
-
公开(公告)号：CN215035941U
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202120555994.9
申请日：2021-03-17
Applicant: 广东工业大学
Abstract: 本实用新型涉及超精密加工的技术领域，更具体地，涉及一种磁场动态叠加的磁流变抛光装置，包括机床、设于机床顶部的机架、第一驱动组件、第二驱动组件、动磁场发生组件、工件安装组件和抛光盘组件，动磁场发生组件、抛光盘组件和工件安装组件均安装于机架，抛光盘组件内盛有磁流变抛光液，工件安装组件可伸入抛光盘组件内，动磁场发生组件包括与第一驱动组件连接的旋转组件、设于旋转组件顶部的斜置磁极和中心磁极，斜置磁极倾斜设置，斜置磁极和中心磁极均产生磁场且共同作用于磁流变抛光液。本实用新型通过斜置磁极产生具有动态均匀性的动态磁场，实现磁性链串重新排布而实现磨料的更新和自锐，且实现对工件均匀化、超光滑平面抛光。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.032 seconds)
