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公开(公告)号:CN101299368A
公开(公告)日:2008-11-05
申请号:CN200810014729.9
申请日:2008-03-07
Applicant: 山东大学
Inventor: 颜世申 , 姚新欣 , 乔瑞敏 , 秦羽丰 , 孙毅彦 , 陈延学 , 刘国磊 , 梅良模
IPC: H01F1/40 , H01F10/193 , H01F41/18
Abstract: 磁性增强的H掺杂MnxGe1-x磁性半导体薄膜,属于信息技术自旋电子材料领域。该发明通过向MnxGe1-x薄膜中掺杂H且其含量2at%-35at%,获得居里温度>270K的磁性半导体薄膜。
公开(公告)号:CN101299368B
公开(公告)日:2010-06-09
Abstract: 磁性增强的H掺杂MnxGe1-x磁性半导体薄膜,属于信息技术自旋电子材料领域。该发明通过向MnxGe1-x薄膜中掺杂H且其含量2at%-35at%,获得居里温度>270K的磁性半导体薄膜。