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公开(公告)号:CN101627062B
公开(公告)日:2013-03-20
申请号:CN200880007276.5
申请日:2008-02-21
Applicant: 尤尼威蒂恩技术有限责任公司
Inventor: R·O·哈格蒂 , K·B·斯特文斯 , R·B·莱尔德 , 林泽榕 , M·E·米勒 , A·K·阿加皮奥 , D·M·格洛夫切维斯基 , F·D·胡赛因 , G·D·莫尔 , T·A·鲍威尔 , M·E·塞洛夫 , E·F·史密斯 , K·W·特拉普
CPC classification number: C08F10/00 , Y02P20/582 , C08F2/004 , C08F2500/01
Abstract: 处理流化床反应系统至少一个内表面(例如床壁)的方法,包括涂布溶液催化剂(优选至少基本均匀以及以液态形式)至每一表面,以及任选(如果溶液催化剂的催化剂组分包含至少一种含铬化合物)以受控方式氧化至少一些所涂布的含铬化合物。
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公开(公告)号:CN1319995C
公开(公告)日:2007-06-06
申请号:CN03823002.X
申请日:2003-08-28
Applicant: 尤尼威蒂恩技术有限责任公司
CPC classification number: C08F10/02 , C08F210/16 , C08F2/34 , C08F2/004 , C08F2500/05 , C08F2500/06
Abstract: 本发明公开了用于聚合反应器的反应器壁涂层和形成这种涂层的方法。所述反应器壁涂层可具有至少100μm的厚度和包括一个主峰的分子量分布,所述主峰具有如下性质之一种或多种:小于10的Mw/Mn比值;小于7的Mz/Mw比值,和在d(wt%)/d(log MW)曲线中小于25000道尔顿处的d(wt%)/d(log MW)最大值,其中MW为以道尔顿计的分子量。所述反应器壁涂层可在聚合过程中,在初始无反应器壁涂层或具有预先存在的反应器壁涂层的反应器壁上原位形成。
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公开(公告)号:CN103159872B
公开(公告)日:2015-08-19
申请号:CN201310068192.5
申请日:2008-02-21
Applicant: 尤尼威蒂恩技术有限责任公司
Inventor: R·O·哈格蒂 , K·B·斯特文斯 , R·B·莱尔德 , 林泽榕 , M·E·米勒 , A·K·阿加皮奥 , D·M·格洛夫切维斯基 , F·D·胡赛因 , G·D·莫尔 , T·A·鲍威尔 , M·E·塞洛夫 , E·F·史密斯 , K·W·特拉普
CPC classification number: C08F10/00 , C08F110/02 , Y02P20/582 , C08F2/005 , C08F2/34 , C08F2/004
Abstract: 本发明是溶液催化剂涂布反应器表面的方法。处理流化床反应系统至少一个内表面(例如床壁)的方法,包括涂布溶液催化剂(优选至少基本均匀以及以液态形式)至每一表面,以及任选(如果溶液催化剂的催化剂组分包含至少一种含铬化合物)以受控方式氧化至少一些所涂布的含铬化合物。
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公开(公告)号:CN103159872A
公开(公告)日:2013-06-19
申请号:CN201310068192.5
申请日:2008-02-21
Applicant: 尤尼威蒂恩技术有限责任公司
Inventor: R·O·哈格蒂 , K·B·斯特文斯 , R·B·莱尔德 , 林泽榕 , M·E·米勒 , A·K·阿加皮奥 , D·M·格洛夫切维斯基 , F·D·胡赛因 , G·D·莫尔 , T·A·鲍威尔 , M·E·塞洛夫 , E·F·史密斯 , K·W·特拉普
CPC classification number: C08F10/00 , C08F110/02 , Y02P20/582 , C08F2/005 , C08F2/34 , C08F2/004
Abstract: 本发明是溶液催化剂涂布反应器表面的方法。处理流化床反应系统至少一个内表面(例如床壁)的方法,包括涂布溶液催化剂(优选至少基本均匀以及以液态形式)至每一表面,以及任选(如果溶液催化剂的催化剂组分包含至少一种含铬化合物)以受控方式氧化至少一些所涂布的含铬化合物。
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公开(公告)号:CN102272165A
公开(公告)日:2011-12-07
申请号:CN201080003839.0
申请日:2010-01-07
Applicant: 尤尼威蒂恩技术有限责任公司
CPC classification number: C08F10/02 , C08F210/16 , C08F2/005 , C08F210/14 , C08F2500/12 , C08F2500/05
Abstract: 公开了聚合方法,其包括:聚合至少一种烯烃以在聚合反应器中形成基于烯烃的聚合物;以及将至少一种乙烯亚胺添加剂进料到聚合反应器。该乙烯亚胺添加剂可包含聚乙烯亚胺、乙烯亚胺共聚物或其混合物。该方法,可此外包括在聚合反应器中监测静电;通过使用至少一种乙烯亚胺添加剂而把静电保持在要求的水平,存在于所述反应器的至少一种乙烯亚胺添加剂在基于由所述的结合生产的聚合物的重量大约0.1到大约50ppm的范围。
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公开(公告)号:CN1688608A
公开(公告)日:2005-10-26
申请号:CN03823002.X
申请日:2003-08-28
Applicant: 尤尼威蒂恩技术有限责任公司
CPC classification number: C08F10/02 , C08F210/16 , C08F2/34 , C08F2/004 , C08F2500/05 , C08F2500/06
Abstract: 本发明公开了用于聚合反应器的反应器壁涂层和形成这种涂层的方法。所述反应器壁涂层可具有至少100μm的厚度和包括一个主峰的分子量分布,所述主峰具有如下性质之一种或多种:小于10的Mw/Mn比值;小于7的Mz/Mw比值,和在d(wt%)/d(log MW)曲线中小于25000道尔顿处的d(wt%)/d(log MW)最大值,其中MW为以道尔顿计的分子量。所述反应器壁涂层可在聚合过程中,在初始无反应器壁涂层或具有预先存在的反应器壁涂层的反应器壁上原位形成。
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公开(公告)号:CN102272165B
公开(公告)日:2013-08-28
申请号:CN201080003839.0
申请日:2010-01-07
Applicant: 尤尼威蒂恩技术有限责任公司
CPC classification number: C08F10/02 , C08F210/16 , C08F2/005 , C08F210/14 , C08F2500/12 , C08F2500/05
Abstract: 公开了聚合方法,其包括:聚合至少一种烯烃以在聚合反应器中形成基于烯烃的聚合物;以及将至少一种乙烯亚胺添加剂进料到聚合反应器。该乙烯亚胺添加剂可包含聚乙烯亚胺、乙烯亚胺共聚物或其混合物。该方法,可此外包括在聚合反应器中监测静电;通过使用至少一种乙烯亚胺添加剂而把静电保持在要求的水平,存在于所述反应器的至少一种乙烯亚胺添加剂在基于由所述的结合生产的聚合物的重量大约0.1到大约50ppm的范围。
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公开(公告)号:CN101720334B
公开(公告)日:2013-06-26
申请号:CN200880005087.4
申请日:2008-01-18
Applicant: 尤尼威蒂恩技术有限责任公司
CPC classification number: C08F10/00 , C08F2400/02 , C08F2/34 , C08F2/002 , C08F2/00
Abstract: 总体上提供在流化床反应器中监测聚合反应,以在线方式产生指示即将发生中断事故(例如结片)的数据以及任选地还控制该反应以防止中断事故发生的方法。典型的实施方案包括如下步骤:以在线方式产生指示在该流化床中静电荷的静电数据以及指示携带静电的携带静电数据中的至少一种;以及产生指示第一温度的温度数据(以在线方式使用至少一种所监测的反应参数)和指示在该反应器中树脂粘着性的声发射数据中的至少一种,其中第一温度指示在该反应器中树脂粘着程度以及在反应器中的聚合物树脂在至少一种稀释剂存在下的熔融行为的特性的至少之一种。
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公开(公告)号:CN101263164B
公开(公告)日:2010-12-01
申请号:CN200680033564.9
申请日:2006-08-15
Applicant: 尤尼威蒂恩技术有限责任公司
CPC classification number: G05B15/02 , B01J8/1809 , B01J8/1872 , B01J2208/00061 , B01J2219/002 , B01J2219/00216 , B01J2219/00231 , B01J2219/00234 , B01J2219/00268 , C08F210/16 , C08F2400/02 , G01N29/14 , G01N29/38 , G01N29/449 , G01N2291/0251 , C08F2/34 , C08F2/00 , C08F210/14
Abstract: 本发明的实施方案涉及在等于或接近于最大生产速率下操作至少一个气相反应器以及测量和控制气相反应器聚合中聚合物粘着性。具体来说,实施方案涉及监测在气相聚合期间反应器中的声波发射以测定反应器粘着性,和可能地中断现象如由该粘着性引起的结块和成片的开始。实施方案还涉及监测声波发射以测定对参数的有效控制的需要,所述参数使反应器粘着性最小化并因此防止中断现象。通过算术平均处理该发射值。
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