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公开(公告)号：CN101151559B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200680010551.X
申请日：2006-03-29
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G02B5/3016
Abstract: 公开了一种新型转移材料。该转移材料至少包括：支持体、和所述支持体上的光学单轴或双轴各向异性层和感光聚合物层。还公开了一种新的制备液晶元件基片的方法。该方法至少包括：[1]在基片上层合如权利要求1-11任一项所述的转移材料；[2]从层合在所述基片上的转移材料中除去支持体；和[3]将设置在所述基片上的感光聚合物层曝光。
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公开(公告)号：CN117916656A
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN202280060613.7
申请日：2022-09-07
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02F1/13357 , G02F1/1335 , G02F1/13363
Abstract: 本发明提供一种光的利用效率高、反射模式与透过模式之间的色域差小、即使在外光下反差也高的半透过型液晶显示装置。一种液晶显示装置，其包括背光单元及液晶面板，其中，液晶面板从背光侧包括第1偏振器、液晶层及第2偏振器，在背光单元与液晶面板之间还具有发光层，该发光层被从背光单元射出的光激发而发光，并且还被从液晶显示装置的外侧入射的外光激发而发光，在第1偏振器与发光层之间具有λ/4相位差层。
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公开(公告)号：CN101151559A
公开(公告)日：2008-03-26
申请号：CN200680010551.X
申请日：2006-03-29
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G02B5/3016
Abstract: 公开了一种新型转移材料。该转移材料至少包括：支持体、和所述支持体上的光学单轴或双轴各向异性层和感光聚合物层。还公开了一种新的制备液晶元件基片的方法。该方法至少包括：[1]在基片上层合如权利要求1－11任一项所述的转移材料；[2]从层合在所述基片上的转移材料中除去支持体；和[3]将设置在所述基片上的感光聚合物层曝光。
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公开(公告)号：CN111602076B
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN201980008322.1
申请日：2019-01-17
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够在有机EL显示元件上的规定的位置上形成相位差膜且应用了相位差膜的有机EL显示装置的显示性能优异的组合物、有机EL显示元件用相位差膜及有机EL显示元件用相位差膜的制造方法。本发明的组合物为包含具有亲水性基团、交联性基团及介晶基团的聚合物以及聚合性化合物，且用于形成配置于有机电致发光显示元件上的相位差膜的组合物。
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公开(公告)号：CN108700782A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780012990.2
申请日：2017-01-30
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02F1/1337 , G02F1/1339
CPC classification number: G02F1/1337 , G02F1/1339
Abstract: 本发明的目的在于提供一种更加简单的液晶显示面板的制造方法。本发明的液晶显示面板的制造方法具备如下工序：准备在密封材料形成区域以外的区域形成有光取向膜的一对基板的基板准备工序；在一对基板中的任一者的密封材料形成区域形成密封材料的工序；通过密封材料来将基板彼此贴合的工序；及在由基板及密封材料包围的空间形成液晶层的工序，该液晶显示面板的制造方法中，基板准备工序具备如下工序：在基板上形成涂膜的工序，该涂膜由具有光图案形成性和光取向性并且含有热固化成分的取向膜材料组成；对涂膜进行曝光及显影并去除涂膜中形成于密封材料形成区域的涂膜的工序；对去除工序后残留的涂膜进行热固化并在基板的除所述密封材料形成区域以外的区域形成热固化膜的工序；及对热固化膜实施光取向处理并在基板的除密封材料形成区域以外的区域形成光取向膜的工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106324986A
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：CN201610395970.5
申请日：2016-06-07
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: G03F7/004
Abstract: 本发明的课题在于提供能够形成兼作取向膜的层间绝缘膜的感光性树脂组合物、以及使用了其的固化膜的制造方法、固化膜及液晶显示装置。一种感光性树脂组合物，其是含有聚合物成分A1和光酸产生剂B1的感光性树脂组合物，所述聚合物成分A1含有包含具有酸基被酸分解性基团保护的基团的构成单元a1的聚合物A1-1，满足下述1～3中的至少一个：1：聚合物A1-1进一步包含具有交联性基团的构成单元a2，2：作为聚合物成分A1进一步含有包含具有交联性基团的构成单元a2的聚合物A1-2，3：进一步含有具有交联性基团的分子量为1,000以下的交联剂C1，并且，满足下述4及5中的至少一个：4：聚合物A1-1或聚合物A1-2包含下述s1中所示的构成单元，5：作为聚合物成分A1进一步含有包含特定的构成单元的聚合物A1-3。
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公开(公告)号：CN105911731A
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201610058605.5
申请日：2016-01-28
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/133345 , G02F1/1337 , G02F1/133711 , G02F1/134363
Abstract: 本发明提供一种液晶显示装置及其制造方法，该液晶显示装置使设于薄膜晶体管上的绝缘膜兼作使液晶分子取向的取向膜而结构较以前简化，该液晶显示装置的制造方法的制造工序较以前简化。本发明的液晶显示装置是将第1基板与第2基板夹持着液晶层彼此相向配置而成，在第1基板上设有用来驱动液晶层的液晶分子的薄膜晶体管、至少一种电极、以及至少一部分与液晶层直接接触的绝缘膜。在绝缘膜上配置有至少一种电极中的一个，绝缘膜对液晶层的液晶分子具有取向功能。
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公开(公告)号：CN101802659A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200880106318.0
申请日：2008-07-18
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/20 , G02B5/00 , G02F1/1335
Abstract: 本发明涉及滤色器的制造方法，其具有黑色矩阵形成工序和着色图案形成工序；所述黑色矩阵形成工序是通过使用感光性浓色组合物在基板上形成感光性浓色组合物层，将所述感光性浓色组合物层曝光，将曝光后的所述感光性浓色组合物层显影，形成下凹长度为3.0～8.0μm的黑色矩阵图案，对黑色矩阵图案进行烘烤，从而形成黑色矩阵；所述着色图案形成工序是下述工序：在形成有黑色矩阵的所述基板上使用感光性着色组合物形成感光性着色组合物层，将所述感光性着色组合物层曝光，将曝光后的所述感光性着色组合物层显影，对显影后的所述感光性着色组合物层进行烘烤，从而形成着色图案；其中，以得到下述重叠部的方式形成着色图案；所述重叠部为由所述黑色矩阵与所述着色图案重合而成的重叠部，且重叠部的在黑色矩阵宽度方向上的长度为1.0～12μm。
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公开(公告)号：CN101796438A
公开(公告)日：2010-08-04
申请号：CN200880105831.8
申请日：2008-09-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/40
CPC classification number: G02B5/201 , G02F1/133516 , G03F7/0007 , G03F7/40 , Y10T428/24488
Abstract: 在透明衬底(3)上形成黑矩阵(10)，并且形成微滤色片(12)以部分重叠在所述黑矩阵(10)上。所述黑矩阵(10)的厚度从黑矩阵(10)的开口边(10a)向其平面部分(10b)逐渐增加。平面部分(10b)具有大体上均匀的厚度。黑矩阵(10)的厚度增加部分的截面线具有凸起的曲线部分P1和P3以及凹陷的曲线部分P2。控制黑矩阵(10)的厚度，使得厚度增加部分的截面线保持在与凸起的曲线部分P1和P3两者都接触的切线之下。
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公开(公告)号：CN101311832A
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200810097168.3
申请日：2008-05-19
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 金子若彦
IPC: G03F7/16 , G02B5/20 , G02F1/1333 , F26B5/04
Abstract: 本发明提供带涂覆膜的基板的制造方法，其中包括：在表面具有凹凸的基板的存在所述凹凸一侧的面上，涂覆涂覆液的涂覆工序；在冷却所述基板的同时，对气氛进行减压使被涂覆的所述涂覆液干燥的干燥工序。其为即便在具有凹凸的面上形成涂覆膜，也可以形成表面平坦性高的涂覆膜的带涂覆膜的基板的制造方法。
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