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公开(公告)号：CN102484208A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080033346.1
申请日：2010-07-12
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: H01L51/5016 , H01L51/0072 , H01L51/0087 , H01L51/5048
Abstract: 本发明公开一种有机电致发光元件，其中按顺序相继形成一个电极、至少一个有机沉积层和另一个电极。该有机电致发光元件的特征在于：有机沉积层的在所述另一个电极侧的表面的表面粗糙度(Ra)与有机沉积层的厚度(t)满足以下关系：0.093＜Ra/t＜0.340。本发明还公开了一种用于制备有机电致发光元件的方法，其中按顺序相继形成一个电极、包括发光层的至少一个有机沉积层和另一个电极。进行有机沉积层的沉积以使得有机沉积层的在所述另一个电极侧的表面的表面粗糙度(Ra)与有机沉积层的厚度(t)满足以下关系：0.093＜Ra/t＜0.340。
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公开(公告)号：CN111051073B
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN201880055552.9
申请日：2018-08-24
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种机上显影型平版印刷版原版及使用上述平版印刷版原版的平版印刷版的制造方法，上述机上显影型平版印刷版原版在具有阳极氧化被膜的铝支承体上具有图像记录层，其中，上述平版印刷版原版的端部具有下弯形状，上述图像记录层含有具有支承体吸附性、分子量为1,000以下且在分子中不具有不饱和双键基团的化合物，上述化合物的含量在上述图像记录层的面内实质上相同。
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公开(公告)号：CN110537148A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201880026076.8
申请日：2018-04-12
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种Z-因子良好且能够形成图案崩塌得到抑制的图案的EUV光用感光性组合物、图案形成方法及电子器件的制造方法。EUV光用感光性组合物含有规定的树脂及光产酸剂，或者含有具有含光产酸基团的重复单元的规定的树脂，且满足要件1和要件2。要件1：由式(1)求出的A值为0.14以上。式(1)：A＝([H]×0.04+[C]×1.0+[N]×2.1+[O]×3.6+[F]×5.6+[S]×1.5+[I]×39.5)/([H]×1+[C]×12+[N]×14+[O]×16+[F]×19+[S]×32+[I]×127)。要件2：EUV光用感光性组合物中的固体成分浓度为2.5质量％以下。
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公开(公告)号：CN102741748B
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201180007857.0
申请日：2011-12-22
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C381/12 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: 本发明提供一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，其具有优异的灵敏度、粗糙度特性和曝光宽容度，以及一种使用其形成图案的方法。所述组合物包含(A)当与酸作用时分解从而增加其在碱性显影剂中溶解度的树脂，以及(B)当曝光于光化射线或辐射时分解从而产生酸的化合物，所述化合物为下述通式(1-1)的任何化合物。
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公开(公告)号：CN102741748A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：CN201180007857.0
申请日：2011-12-22
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , C07C381/12 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: 本发明提供一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，其具有优异的灵敏度、粗糙度特性和曝光宽容度，以及一种使用其形成图案的方法。所述组合物包含(A)当与酸作用时分解从而增加其在碱性显影剂中溶解度的树脂，以及(B)当曝光于光化射线或辐射时分解从而产生酸的化合物，所述化合物为下述通式(1-1)的任何化合物。
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公开(公告)号：CN114375421B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202080060142.0
申请日：2020-07-29
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种用于能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的树脂以及作为其单体的化合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂X，所述树脂X含有来源于下述化合物的重复单元。化合物：其含有2个以上由阴离子部位和阳离子部位构成的结构部位及聚合性基团，通过光化射线或放射线的照射产生含有来源于上述2个以上的结构部位中的上述阴离子部位的酸性部位的酸。
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公开(公告)号：CN110537148B
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN201880026076.8
申请日：2018-04-12
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种Z‑因子良好且能够形成图案崩塌得到抑制的图案的EUV光用感光性组合物、图案形成方法及电子器件的制造方法。EUV光用感光性组合物含有规定的树脂及光产酸剂，或者含有具有含光产酸基团的重复单元的规定的树脂，且满足要件1和要件2。要件1：由式(1)求出的A值为0.14以上。式(1)：A＝([H]×0.04+[C]×1.0+[N]×2.1+[O]×3.6+[F]×5.6+[S]×1.5+[I]×39.5)/([H]×1+[C]×12+[N]×14+[O]×16+[F]×19+[S]×32+[I]×127)。要件2：EUV光用感光性组合物中的固体成分浓度为2.5质量％以下。
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公开(公告)号：CN102870046A
公开(公告)日：2013-01-09
申请号：CN201180021813.3
申请日：2011-12-22
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明提供一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，其包含(A)当与酸作用时分解从而增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂，(B)盐，所述盐在其阳离子部分中含有氮原子，所述盐当曝光于光化射线或辐射时分解从而产生酸，和(C)当曝光于光化射线或辐射时产生酸的化合物，所述化合物为下面通式(1-1)和(1-2)的化合物中的任一种。
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公开(公告)号：CN111095106B
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN201880056528.7
申请日：2018-08-15
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 通过本发明，可以提供一种图案形成方法及使用该图案形成方法的离子注入方法以及用于上述图案形成方法的层叠体、试剂盒、抗蚀剂下层膜形成用组合物、抗蚀剂组合物及电子器件的制造方法，该图案形成方法包括：(1)在被处理基板上形成抗蚀剂下层膜的工序；(2)利用含有(A)具有选自包括Si原子及Ti原子的组中的原子的树脂的抗蚀剂组合物，在抗蚀剂下层膜上形成抗蚀剂膜的工序；(3)曝光抗蚀剂膜的工序；(4)对经曝光的抗蚀剂膜进行显影而形成抗蚀剂图案的工序；及(5)将抗蚀剂图案作为掩模，对抗蚀剂下层膜进行加工来形成图案的工序，该图案形成方法中，抗蚀剂下层膜的膜厚为2.5μm以上，抗蚀剂膜的膜厚为1μm以下。
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公开(公告)号：CN114375421A
公开(公告)日：2022-04-19
申请号：CN202080060142.0
申请日：2020-07-29
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种用于能够形成LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物的树脂以及作为其单体的化合物。并且，提供一种使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的抗蚀剂膜及图案形成方法、以及使用了上述图案形成方法的电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂X，所述树脂X含有来源于下述化合物的重复单元。化合物：其含有2个以上由阴离子部位和阳离子部位构成的结构部位及聚合性基团，通过光化射线或放射线的照射产生含有来源于上述2个以上的结构部位中的上述阴离子部位的酸性部位的酸。
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