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公开(公告)号:CN103650107A
公开(公告)日:2014-03-19
申请号:CN201280034131.0
申请日:2012-07-09
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/027 , B29C59/02 , C08F2/44 , G11B5/84
CPC classification number: C08K5/053 , B29C59/005 , C08F2/46 , C08F2/48 , C08F220/10 , C08F220/22 , C08F222/1006 , C08F230/08 , C08F2220/1833 , C08F2220/185 , C08F2220/1875 , C08F2220/1891 , C08F2220/382 , C08F2222/1013 , C08F2222/102 , C09D4/06 , G11B5/855 , Y10T428/24479 , C09D133/04 , C08L71/02
Abstract: 本发明提供一种压印用固化性组合物,所述压印用固化性组合物即使在重复性的图案转印之后也能够保持良好的图案形成能力并且产生较少的缺陷。该压印用固化性组合物包含:聚合性化合物(A);光聚合引发剂(B);和具有聚烷撑二醇结构的非聚合性化合物(C),所述聚烷撑二醇结构具有至少一个端羟基,或至少一个醚化的端羟基,并且基本上不含氟原子和硅原子。
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公开(公告)号:CN106200268A
公开(公告)日:2016-12-07
申请号:CN201610793819.7
申请日:2011-03-25
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/2041 , Y10T428/24
Abstract: 本发明提供一种形成图案以确保优良的曝光宽容度(EL)以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法。所述图案形成方法包含(A)由光阻组成物形成膜;(B)使所述膜曝光;以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影,藉此形成负像图案。所述光阻组成物含有(a)在受酸作用时使其分解且其由下式(1)表示的ΔSP为2.5(兆帕)1/2或2.5(兆帕)1/2以上的树脂,(b)当曝露于光化射线或辐射时分解产生酸的化合物,以及(c)溶剂。ΔSP=SPF-SPI(1)。
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公开(公告)号:CN102844710B
公开(公告)日:2016-01-27
申请号:CN201180010800.6
申请日:2011-02-24
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/30 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/38 , Y10T428/24479
Abstract: 本发明提供一种形成图案以确保优良的感光度、限制解析力、粗糙度特性、曝光宽容度(EL)、曝光后烘烤(PEB)温度依赖性以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法以及一种用于所述方法的抗蚀剂组成物。所述方法包括(A)由包括含有重复单元的树脂的抗蚀剂组成物形成膜,其中所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团,所述树脂从而在受酸作用时降低其在含有有机溶剂的显影剂中的溶解度;(B)使所述膜曝光;以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影。
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公开(公告)号:CN102844710A
公开(公告)日:2012-12-26
申请号:CN201180010800.6
申请日:2011-02-24
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: G03F7/30 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/0758 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/38 , Y10T428/24479
Abstract: 本发明提供一种形成图案以确保优良的感光度、限制解析力、粗糙度特性、曝光宽容度(EL)、曝光后烘烤(PEB)温度依赖性以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法以及一种用于所述方法的抗蚀剂组成物。所述方法包括(A)由包括含有重复单元的树脂的抗蚀剂组成物形成膜,其中所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团,所述树脂从而在受酸作用时降低其在含有有机溶剂的显影剂中的溶解度;(B)使所述膜曝光;以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影。
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公开(公告)号:CN114730145A
公开(公告)日:2022-07-08
申请号:CN202080080358.3
申请日:2020-11-18
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/40
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法、上述图案形成方法中所使用的光固化性树脂组合物、包括上述图案形成方法的层叠体的制造方法及包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法或光固化性树脂组合物,所述图案形成方法包括:第1曝光工序,曝光由光固化性树脂组合物形成的光固化性膜的一部分;显影工序,通过显影液对上述曝光后的上述光固化性膜进行显影来获得显影图案;及第2曝光工序,曝光上述显影图案来获得图案,上述光固化性树脂组合物为特定组成。
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公开(公告)号:CN102812400B
公开(公告)日:2015-07-29
申请号:CN201180015971.8
申请日:2011-03-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F220/26 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/30 , C08F220/28 , C08F232/08 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/2041 , G03F7/325 , Y10T428/24802
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物以及一种使用其的图案形成方法,从而确保在曝光后延迟(PED)期期间的极佳蚀刻抗性以及稳定性。所述组合物含有含重复单元的树脂以及当曝露于光化射线或放射线时产生pka≥-1.5的酸的化合物,所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团。
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公开(公告)号:CN102812400A
公开(公告)日:2012-12-05
申请号:CN201180015971.8
申请日:2011-03-25
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C08F220/26 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/30 , C08F220/28 , C08F232/08 , G03F7/0045 , G03F7/0382 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/0758 , G03F7/2041 , G03F7/325 , Y10T428/24802
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物以及一种使用其的图案形成方法,从而确保在曝光后延迟(PED)期期间的极佳蚀刻抗性以及稳定性。所述组合物含有含重复单元的树脂以及当曝露于光化射线或放射线时产生pka≥-1.5的酸的化合物,所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团。
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公开(公告)号:CN114514470A
公开(公告)日:2022-05-17
申请号:CN202080070827.3
申请日:2020-10-08
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种所获得的图案的形状优异的图案形成方法、用于上述图案形成方法的感光性树脂组合物、包括上述图案形成方法的层叠体的制造方法及包括上述图案形成方法的电子器件的制造方法。图案形成方法包括:第一区域曝光工序,对由感光性树脂组合物构成的感光膜的一部分区域即第一区域进行选择性曝光;第二区域曝光工序,对第二区域进行选择性曝光;及显影工序,对上述第二区域曝光工序后的感光膜进行显影,包含在上述第一区域中的至少一部分区域和包含在上述第二区域中的至少一部分区域为共同区域,上述感光性树脂组合物包含特定的树脂及感光剂。
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公开(公告)号:CN114341731A
公开(公告)日:2022-04-12
申请号:CN202080059579.2
申请日:2020-08-26
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种固化膜的制造方法、在上述固化膜的制造方法中使用的光固化性树脂组合物、包括上述固化膜的制造方法的层叠体的制造方法及包括上述固化膜的制造方法的电子器件的制造方法,上述固化膜的制造方法包括:第1曝光工序,对由光固化性树脂组合物形成的光固化性膜的一部分进行曝光;显影工序,通过显影液对上述曝光后的上述光固化性膜进行显影而获得图案;及第2曝光工序,通过包含波长与在上述第1曝光工序中使用的光的波长不同的光的光对上述图案进行曝光,上述光固化性树脂组合物为特定的组成。
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公开(公告)号:CN103650107B
公开(公告)日:2016-11-16
申请号:CN201280034131.0
申请日:2012-07-09
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/027 , B29C59/02 , C08F2/44 , G11B5/84
CPC classification number: C08K5/053 , B29C59/005 , C08F2/46 , C08F2/48 , C08F220/10 , C08F220/22 , C08F222/1006 , C08F230/08 , C08F2220/1833 , C08F2220/185 , C08F2220/1875 , C08F2220/1891 , C08F2220/382 , C08F2222/1013 , C08F2222/102 , C09D4/06 , G11B5/855 , Y10T428/24479 , C09D133/04 , C08L71/02
Abstract: 所公开的是提供一种压印用固化性组合物,所述压印用固化性组合物即使在重复性的图案转印之后也能够保持良好的图案形成能力并且产生较少的缺陷。该压印用固化性组合物包含:聚合性化合物(A);光聚合引发剂(B);和具有聚烷撑二醇结构的非聚合性化合物(C),所述聚烷撑二醇结构具有至少一个端羟基,或至少一个醚化的端羟基,并且基本上不含氟原子和硅原子。
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