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公开(公告)号:CN1329274A
公开(公告)日:2002-01-02
申请号:CN01115972.3
申请日:2001-06-13
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03C1/035
CPC classification number: G03C1/08 , G03C1/035 , G03C1/09 , G03C2001/03517 , G03C2001/093
Abstract: 本发明提供了一种卤化银照相用感光材料,它包括在其上有至少一卤化银乳剂层的载体,其中在该卤化银乳剂层中所含的卤化银乳剂含有氯化银含量为90mol%或更高的卤化银颗粒,并且该卤化银乳剂还含有H
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公开(公告)号:CN1231812C
公开(公告)日:2005-12-14
申请号:CN01115972.3
申请日:2001-06-13
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03C1/035
CPC classification number: G03C1/08 , G03C1/035 , G03C1/09 , G03C2001/03517 , G03C2001/093
Abstract: 本发明提供了一种卤化银照相用感光材料,它包括在其上有至少一卤化银乳剂层的载体,其中在该卤化银乳剂层中所含的卤化银乳剂含有氯化银含量为90mol%或更高的卤化银颗粒,并且该卤化银乳剂还含有H2O作为配体的金属络合物。本发明还提供了一种卤化银照相用感光材料,包括在其上有至少一卤化银乳剂层的载体,其中在该卤化银乳剂层中所含的卤化银乳剂含有O2-作为配体的金属络合物。
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公开(公告)号:CN101275057B
公开(公告)日:2012-11-21
申请号:CN200810087355.3
申请日:2008-03-21
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/3212 , C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1463
Abstract: 一种金属抛光液,其在半导体器件的制造过程中用于铜或铜合金的导体膜的化学机械抛光,所述金属抛光液包含:(1)由式(I)表示的氨基酸衍生物;和(2)表面活性剂,其中在所述式(I)中,R1表示含1至4个碳原子的烷基,并且R2表示含1至4个碳原子的亚烷基。
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公开(公告)号:CN101275057A
公开(公告)日:2008-10-01
申请号:CN200810087355.3
申请日:2008-03-21
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: C09G1/18 , C09G1/02 , C09K3/14 , B24B29/00 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/3212 , C09G1/02 , C09K3/1436 , C09K3/1463
Abstract: 一种金属抛光液,其在半导体器件的制造过程中用于铜或铜合金的导体膜的化学机械抛光,所述金属抛光液包含:(1)由式(I)表示的氨基酸衍生物;和(2)表面活性剂,其中在所述式(I)中,R1表示含1至4个碳原子的烷基,并且R2表示含1至4个碳原子的亚烷基。
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