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公开(公告)号:CN114450631A
公开(公告)日:2022-05-06
申请号:CN202080067976.4
申请日:2020-09-14
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用了上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物中,含有(A)酸分解性树脂、(B)由通式(b1)表示的化合物、及(C)由通式(c1)表示的化合物,化合物(C)的含量相对于化合物(B)的含量的比例为0.01质量%以上且10质量%以下。L表示单键或2价的连接基团。A表示通过酸的作用分解的基团。B表示通过酸的作用分解的基团、羟基或羧基。其中,至少1个B表示羟基或羧基。n表示1~5的整数。X表示n+1价的连接基团。M+表示锍离子或碘鎓离子。
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公开(公告)号:CN116848460A
公开(公告)日:2023-10-03
申请号:CN202180093694.6
申请日:2021-12-21
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004
Abstract: 本发明的课题在于提供一种对曝光的灵敏度优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且,本发明的课题在于提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含通过酸的作用分解而极性增大的树脂,满足还包含由式(1)表示的化合物以及通过酸的作用分解而极性增大的树脂具有从由式(1)表示的化合物去除1个氢原子而形成的残基中的至少一个。#imgabs0#
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公开(公告)号:CN116830041A
公开(公告)日:2023-09-29
申请号:CN202180093287.5
申请日:2021-12-20
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039
Abstract: 本发明提供一种经时稳定性及所形成的图案的LWR抑制性优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且,提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、正型图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含具有重复单元(a)的树脂(A)及共轭酸的pKa为13.00以下的碱性化合物,上述重复单元(a)具有通过光化射线或放射线的照射使脱离基脱离而产生酸的非离子性基团,并且将上述脱离基取代为氢原子而成的重复单元的分子量为300以下,相对于上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总固体成分,上述重复单元(a)为规定量。
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公开(公告)号:CN116897320A
公开(公告)日:2023-10-17
申请号:CN202280014601.0
申请日:2022-01-17
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/039
Abstract: 本发明提供一种能够减小所形成的图案的LWR的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物为包含具有重复单元(a)的树脂(A)的感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其中,上述重复单元(a)是具有通过光化射线或放射线的照射使脱离基脱离而产生酸的离子性基团,并且将上述脱离基取代为氢原子而成的重复单元的分子量为300以下的重复单元,相对于上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总固体成分,上述重复单元(a)为规定量以上。
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公开(公告)号:CN115362412A
公开(公告)日:2022-11-18
申请号:CN202180025303.7
申请日:2021-03-12
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 根据本发明,提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用上述组合物的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法、电子器件的制造方法、光掩模制造用感光化射线性或感放射线性树脂组合物及光掩模的制造方法,所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其含有通过酸的作用在显影液中的溶解性发生变化的树脂、具有通过酸的作用进行分解而极性发生变化的基团的光产酸剂(A)、产生pKa比由光产酸剂(A)产生的酸高的酸的光产酸剂(B)及碱性化合物。
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公开(公告)号:CN115349108A
公开(公告)日:2022-11-15
申请号:CN202180024024.9
申请日:2021-03-17
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/004 , C07D327/08 , C07D333/46 , C07D333/76 , C07D335/02 , C07J9/00 , C08F12/24 , C09K3/00 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D307/00 , C07C311/24 , C07C311/48 , C07C311/51 , C07C317/24 , C07C317/44 , C07C381/12 , C07D309/12 , C07D309/30 , C07D327/06 , C07C309/09 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C309/58
Abstract: 本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、由上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法及电子器件的制造方法,所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)通过酸的作用而极性增加的树脂及(B)通过光化射线或放射线的照射而产生酸的化合物,该化合物由特定的通式表示,其中,上述树脂(A)包含由特定的通式表示的重复单元。
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