感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、正型图案形成方法、电子器件的制造方法

    公开(公告)号:CN116830041A

    公开(公告)日:2023-09-29

    申请号:CN202180093287.5

    申请日:2021-12-20

    Abstract: 本发明提供一种经时稳定性及所形成的图案的LWR抑制性优异的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且,提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、正型图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含具有重复单元(a)的树脂(A)及共轭酸的pKa为13.00以下的碱性化合物,上述重复单元(a)具有通过光化射线或放射线的照射使脱离基脱离而产生酸的非离子性基团,并且将上述脱离基取代为氢原子而成的重复单元的分子量为300以下,相对于上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总固体成分,上述重复单元(a)为规定量。

    感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法、电子器件的制造方法

    公开(公告)号:CN116897320A

    公开(公告)日:2023-10-17

    申请号:CN202280014601.0

    申请日:2022-01-17

    Abstract: 本发明提供一种能够减小所形成的图案的LWR的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。本发明的感光化射线性或感放射线性树脂组合物为包含具有重复单元(a)的树脂(A)的感光化射线性或感放射线性树脂组合物,其中,上述重复单元(a)是具有通过光化射线或放射线的照射使脱离基脱离而产生酸的离子性基团,并且将上述脱离基取代为氢原子而成的重复单元的分子量为300以下的重复单元,相对于上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物的总固体成分,上述重复单元(a)为规定量以上。

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