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发明公开
感光化射线性或感放射线性树脂组合物、感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法、电子器件的制造方法、光掩模制造用感光化射线性或感放射线性树脂组合物及光掩模的制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN115362412A

公开(公告)日：2022-11-18

申请号：CN202180025303.7

申请日：2021-03-12

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 石原英幸 , 高桥年哉 , 三好太朗 , 福崎英治

IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20

Abstract: 根据本发明，提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物、使用上述组合物的感光化射线性或感放射线性膜、图案形成方法、电子器件的制造方法、光掩模制造用感光化射线性或感放射线性树脂组合物及光掩模的制造方法，所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物，其含有通过酸的作用在显影液中的溶解性发生变化的树脂、具有通过酸的作用进行分解而极性发生变化的基团的光产酸剂(A)、产生pKa比由光产酸剂(A)产生的酸高的酸的光产酸剂(B)及碱性化合物。

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