公开(公告)号：CN101225508A

公开(公告)日：2008-07-23

申请号：CN200810003314.1

申请日：2008-01-16

Applicant: 富士电机控股株式会社

Inventor： 河村幸则 ,  寺本亮平 ,  川口刚司

IPC: C23C16/00 ,  C23C16/52

CPC classification number: B05D5/12 ,  C23C14/04 ,  C23C14/12 ,  C23C14/243 ,  H01L27/322 ,  H01L27/3241 ,  H01L51/0013

Abstract: 一种在不使用难以实现高分辨率的金属掩模或昂贵的激光扫描设备的情况下制造具有高分辨率图案的气相沉积膜的方法。图案化气相沉积膜通过一种方法来制造，该方法包括以下步骤：制备包括衬底、多个加热元件以及形成于多个加热元件上的沉积材料层的沉积面板，该沉积材料层形成最外面的表面；布置沉积面板和器件衬底使得沉积材料层面向器件衬底；以及使多个加热元件中的至少某些生成热，选择地蒸发设置在已生成热的加热元件上的沉积材料层，在器件衬底的表面上气相沉积以形成气相沉积膜。