净化空气的装置和方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1575205A

    公开(公告)日:2005-02-02

    申请号:CN02821271.1

    申请日:2002-10-28

    Applicant: 宝洁公司

    CPC classification number: B03C3/16

    Abstract: 一种从空气中去除微粒的装置,其包括一个用于接受空气流的进气口,一个同进气口保持流体相通的第一腔室,其中具有第一极性的半导电流体液滴的荷电喷雾被引入到空气流中以使微粒被静电吸引到喷雾液滴并保留在其上,和一个与第一腔室保持流体相通的出气口,其中空气流排出该装置后基本不含微粒。该装置的第一腔室还包括一个用于吸引喷雾液滴的收集面、一个电源和一个连接到电源上用于接受流体并从其产生喷雾液滴的喷雾嘴。该装置也可包括一个与在第一末端的进气口和在第二末端的第一腔室保持流体相通的第二腔室,其中,在空气流中夹带的微粒在空气流进入第一腔室之前被载上与第一极性相反的第二极性电荷。该装置的第二腔室还包括一个电源、至少一个连接到电源上用于在第二腔室中产生电场的电荷传送元件和一个与第二腔室相连的用于限定和控制电场的接地元件,其中空气流在电荷传送元件和接地元件之间通过。

    光增强处理方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113905715A

    公开(公告)日:2022-01-07

    申请号:CN202080040998.1

    申请日:2020-06-25

    Applicant: 宝洁公司

    Abstract: 本发明涉及一种处理皮肤和头皮的方法,所述方法包括:在所述头皮或皮肤上施用组合物,所述组合物包含选自以下的头皮护理活性物质:2‑吡啶酚‑N‑氧化物、吡啶硫酮或吡啶硫酮的多价金属盐、一种或多种AlogP值大于或等于0.4的铁螯合剂,以及其中的混合物;使所述头皮和皮肤暴露于具有约350nm至约500nm波长和约0.1毫瓦/cm2至约1000毫瓦/cm2功率的电磁辐射,并持续约2秒至约5分钟的时间段;其中如通过真菌生长敏感性测试所测量,抗微生物处理导致真菌生长与深色样品相比减少至少50%。

Patent Agency Ranking