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公开(公告)号：CN116713913A
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202310503110.9
申请日：2023-05-06
Applicant: 安徽工程大学
Abstract: 本发明公开了一种基于Laval喷管的多相射流微细加工方法及装置，包括X轴运动平台、Y轴运动平台和Z轴运动平台，还包括设置在Y轴运动平台上的Laval喷管组件、气源组件以及工作台上的浆料容器，所述气源组件用于向Laval喷管组件提供压力空气。本发明通过上述等结构的配合，构建出一种多相射流加工技术，该技术综合了水射流和气射流的优势，可以使用微米/纳米级研磨浆而且具备理想高斯形去除函数，能实现纳米尺度的均匀加工；利用Laval喷管产生的稳定负压吸入磨料，提高流量稳定性，实现稳定性加工；利用Laval喷管将低压气流加速到音速，甚至超音速，提高了加工效率。本发明提出的多相射流加工技术能在多种材料表面进行高效、高质、超精密加工。
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公开(公告)号：CN116182980A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202211615123.7
申请日：2022-12-14
Applicant: 安徽工程大学
IPC: G01F22/00 , G01F23/296 , G01D21/02
Abstract: 本发明涉及磁流变液测试设备技术领域，具体涉及一种磁流变液静态匀强低磁场体积测试装置，解决了现有技术对于测试磁流材料的单一物理属性在温度、磁场耦合条件下的具体数据的相关测试设备较少的问题。包括机架，所述机架还包括设置在下部的下层密封机架和设置在所述下层密封机架上方的上层密封机架；还包括外壳，亥姆霍兹线圈，驱动电机，上安装架，上转盘，设置在所述上安装架上，大转轮，小转轮，同步带，下伸缩架，设置在所述下层密封机架内，通过伸缩改变上端的高度；容液槽，容纳待测试的磁流变液；液位检测器，用于检测距离液面的高度，进而计算出容液槽内磁流变液的体积。
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公开(公告)号：CN116690433A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202310674632.5
申请日：2023-06-08
Applicant: 安徽工程大学
Abstract: 本发明涉及抛光技术领域，具体涉及一种基于Laval喷管的多相射流无损伤抛光装置及方法，包括气源装置、支撑系统、工作台、Laval喷管和浆料循环系统，所述Laval喷管包括收缩段通道、喉部通道、浆料输送通道、扩张段通道和聚焦管，本发明综合了水射流和气射流的优势，可以使用微米/纳米级研磨浆，形成含有气、液、固的多相射流，所述多相射流加工轮廓为高斯形，即U形，能实现纳米尺度的均匀抛光；利用Laval喷管产生的稳定负压吸入水、磨料和添加剂的混合物，提高流量稳定性，实现稳定性抛光；本发明提出的多相射流抛光技术具有良好的仿形特性和流动特性，能对微结构阵列等复杂表面进行高效、高质、无损伤抛。
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公开(公告)号：CN117359500A
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202311357620.6
申请日：2023-10-19
Applicant: 安徽工程大学
Abstract: 本发明涉及流体射流抛光技术领域，具体涉及一种软脆材料用超音速冷冻析晶射流抛光方法及装置。该方法先通入低压气体和饱和溶液，在喉部通道、扩张段通道和聚焦管通道内形成低温环境，饱和溶液在扩张段通道和聚焦管通道内因低温溶解度降低而析出微小晶体颗粒，从而从聚焦管中喷出混有晶体颗粒的气液固射流，对工件表面进行抛光。抛光过程中，将回流至罐内的抛光液温度恢复到室温或加热，使晶粒重新溶解，过滤杂质后循环使用。本发明通过利用Lava l喷管的高速膨胀制冷效应使饱和溶液析出晶体进行抛光，有效解决了软材料抛光时硬质磨料容易嵌入、难以清除的问题。本发明可以高效、高质地对软脆材料制品进行低成本、无损伤、无污染抛光或清洗。
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