一种低电流辉光和高电流弧光等离子体组合渗氮方法

    公开(公告)号:CN113957380A

    公开(公告)日:2022-01-21

    申请号:CN202111255505.9

    申请日:2021-10-27

    Abstract: 本发明涉及等离子体渗氮技术领域,具体涉及一种低电流辉光和高电流弧光等离子体组合渗氮方法:对试样抛光至镜面并清洗、烘干后装载入炉内,打开真空泵,抽真空至5.0×10‑2Pa;电阻加热开启,炉温升温至渗氮所需温度400~550℃;通入氩气,加电压700‑800V,电离氩气形成辉光等离子体清洗试样表面,去除材料表面的氧化物等杂质,激活材料表面;接着利用柱弧源产生的弧光等离子体中的电子流电离氩气,进行二次激活,柱弧靶电流为100~200A;通入氮气,柱弧靶电流维持在100~200A,气压维持在1~3Pa,工件接负偏压300‑500V,形成的氮离子进行渗氮,渗氮速率远高于辉光等离子体渗氮,渗氮层表面粗糙度低,表面质量高,力学性能和摩擦磨损性能优于传统辉光等离子体渗氮术。

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