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公开(公告)号:CN109996903A
公开(公告)日:2019-07-09
申请号:CN201780072744.6
申请日:2017-11-15
Applicant: 宇部材料工业株式会社 , 日本钨合金株式会社
Abstract: 提供一种物理蒸镀用靶构件,其中,形成物理蒸镀膜时氧化所致的基底的劣化少,在物理蒸镀膜与基底的接合部产生的缺陷少,物理蒸镀膜与基底的晶格匹配性好,进而,其自身或形成的物理蒸镀膜的水合所致的变质少。物理蒸镀用靶构件包含Mg、M(M为3价金属元素)和O作为主要成分,Mg和M分别换算为MgO和M2O3这样的氧化物后的摩尔比为70:30~10:90。
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公开(公告)号:CN119546551A
公开(公告)日:2025-02-28
申请号:CN202380053193.4
申请日:2023-07-24
Applicant: 宇部材料工业株式会社
Abstract: 本发明的碱剂的特征在于,其含有氧化镁颗粒,所述氧化镁颗粒的微晶直径为80nm~300nm,BET比表面积为0.1m2/g~1.2m2/g,MgO含有率为95.0质量%以上。(MgO含有率是将通过荧光X射线测定检测出的Mg、Ca、Si、Fe、Al这5种元素分别转换为MgO、CaO、SiO2、Fe2O3、Al2O3时的含有率(质量%)合计设为100时的值。)。
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