公开(公告)号：CN116679532A

公开(公告)日：2023-09-01

申请号：CN202310567849.6

申请日：2023-05-18

Applicant: 季华实验室

Inventor： 陈蕊 ,  周天林 ,  刘卉 ,  李晓峰 ,  叶鹏程

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

Abstract: 本发明公开了一种光刻机动态大面积调焦调平方式，掩膜台承载掩膜版从初始位移动至曝光对准位的过程中，以匀速运动的方式经过第一测量区域，并在第一测量区域完成对掩膜版的全局调焦调平工作，工作台承载工件从上片位移动至曝光位的过程中，以匀速运动的方式经过第二测量区域，并在第二测量区域完成对工件的i个曝光场的调焦调平工作，工件上的i个曝光场逐一进入曝光位进行微调焦调平，使得每个曝光场到达物镜的最佳焦面后再进行曝光。本发明提供的光刻机动态大面积调焦调平方式，实现掩膜版至曝光对准位的过程中进行动态调焦调平工作和工件移动至曝光位的过程中进行动态大面积调焦调平工作，缩短曝光前的整体调焦调平时间，提高了曝光精度。

公开(公告)号：CN117471867A

公开(公告)日：2024-01-30

申请号：CN202311547639.7

申请日：2023-11-20

Applicant: 季华实验室

Inventor： 周天林 ,  凌李旻 ,  刘卉 ,  陈蕊 ,  叶鹏程

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及显示器加工领域，其公开一种曝光设备，包括机架、支撑架、支撑组件、掩膜版和投影装置，支撑架设置在机架上，支撑架的中部设有透光孔，支撑组件设置在支撑架上，支撑组件位于透光孔中，支撑组件分隔透光孔形成沿左右依次排布的第一透光孔和第二透光孔，掩膜版设置在支撑架的上，支撑架和支撑组件均用于支撑掩膜版，投影装置设置在机架上，投影装置设置在第一透光孔和第二透光孔的下方，掩膜版上设置第一掩膜图形和第二掩膜图形，第一掩膜图形和第二掩膜图形分别设置在第一透光孔和第二透光孔的上方，投影装置用于把经过第一透光孔和第二透光孔的光的成像拼接到一起。