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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116661254A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310477896.1
申请日：2023-04-27
Applicant: 季华实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种掩膜版变形控制装置，包括掩膜台、调节组件、变形检测组件和运输组件，调节组件设于掩膜台上，调节组件包括可滑动地设于掩膜台上的滑台、安装在掩膜台上的第一平移机构、与滑台转动连接的手指基座和安装在手指基座上的压力传感器，第一平移机构与滑台连接，手指基座滑动连接有吸附滑块，吸附滑块内设有电容传感器，手指基座与滑台之间设有弹片，变形检测组件和运输组件设于掩膜台上方，运输组件设有吸附手指。本发明提供的膜版变形控制装置，实现对掩膜版的变形进行控制的功能，使掩膜版调整至相对平整的状态。另外本发明还公开了一种采用掩膜版变形控制装置的控制方法。
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公开(公告)号：CN117471867A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202311547639.7
申请日：2023-11-20
Applicant: 季华实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及显示器加工领域，其公开一种曝光设备，包括机架、支撑架、支撑组件、掩膜版和投影装置，支撑架设置在机架上，支撑架的中部设有透光孔，支撑组件设置在支撑架上，支撑组件位于透光孔中，支撑组件分隔透光孔形成沿左右依次排布的第一透光孔和第二透光孔，掩膜版设置在支撑架的上，支撑架和支撑组件均用于支撑掩膜版，投影装置设置在机架上，投影装置设置在第一透光孔和第二透光孔的下方，掩膜版上设置第一掩膜图形和第二掩膜图形，第一掩膜图形和第二掩膜图形分别设置在第一透光孔和第二透光孔的上方，投影装置用于把经过第一透光孔和第二透光孔的光的成像拼接到一起。
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公开(公告)号：CN116661254B
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202310477896.1
申请日：2023-04-27
Applicant: 季华实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种掩膜版变形控制装置，包括掩膜台、调节组件、变形检测组件和运输组件，调节组件设于掩膜台上，调节组件包括可滑动地设于掩膜台上的滑台、安装在掩膜台上的第一平移机构、与滑台转动连接的手指基座和安装在手指基座上的压力传感器，第一平移机构与滑台连接，手指基座滑动连接有吸附滑块，吸附滑块内设有电容传感器，手指基座与滑台之间设有弹片，变形检测组件和运输组件设于掩膜台上方，运输组件设有吸附手指。本发明提供的膜版变形控制装置，实现对掩膜版的变形进行控制的功能，使掩膜版调整至相对平整的状态。另外本发明还公开了一种采用掩膜版变形控制装置的控制方法。
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公开(公告)号：CN117262711A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311173371.5
申请日：2023-09-12
Applicant: 季华实验室
IPC: B65G47/90
Abstract: 本发明涉及搬运领域，其公开一种掩膜版支撑装置及掩膜版搬运装置，包括支架、左滑移机构、右滑移机构、左支撑组件和右支撑组件，所述左支撑组件设置在所述左滑移机构上，所述右支撑组件设置在所述右滑移机构上，所述左滑移机构带动所述左滑移组件沿左右方向往复运动，所述右滑移机构带动所述右滑移组件沿左右方向往复运动，所述左支撑组件用于支撑掩膜版的左侧底面，所述右滑移组件用于支撑掩膜版的右侧底面。本发明可确保掩膜版搬运后充分展平。
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公开(公告)号：CN116679532A
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN202310567849.6
申请日：2023-05-18
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明公开了一种光刻机动态大面积调焦调平方式，掩膜台承载掩膜版从初始位移动至曝光对准位的过程中，以匀速运动的方式经过第一测量区域，并在第一测量区域完成对掩膜版的全局调焦调平工作，工作台承载工件从上片位移动至曝光位的过程中，以匀速运动的方式经过第二测量区域，并在第二测量区域完成对工件的i个曝光场的调焦调平工作，工件上的i个曝光场逐一进入曝光位进行微调焦调平，使得每个曝光场到达物镜的最佳焦面后再进行曝光。本发明提供的光刻机动态大面积调焦调平方式，实现掩膜版至曝光对准位的过程中进行动态调焦调平工作和工件移动至曝光位的过程中进行动态大面积调焦调平工作，缩短曝光前的整体调焦调平时间，提高了曝光精度。
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