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公开(公告)号：CN119816094A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202510291340.2
申请日：2025-03-12
Applicant: 季华实验室
IPC: H10K50/12 , C07F5/02 , H10K85/30 , H10K85/60 , H10K101/20
Abstract: 本发明属于电致发光领域，公开了一种有机电致发光器件、显示装置。该硼氮化合物的结构如式I所示：#imgabs0#式I；由特定原料通过硼化扣环反应、硼脂化反应、铃木偶联反应等过程制得。本发明提出的新型硼氮化合物可应用于溶液加工OLED工艺中作为窄光谱发光材料，其多发光核心与桥连基团的引入有利于实现材料发射峰位的调控，使本发明的材料表现出实际应用所需的绿光；基于该硼氮化合物的成膜性能获得了提升，形成的发光层薄膜具有更高的水平偶极取向性能，有利于提升器件效率；同时，基于该硼氮化合物的发光器件在色纯度方面有明显提升，而且浓度依赖性较弱，可以提升工艺窗口。
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公开(公告)号：CN119124561A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202411597952.6
申请日：2024-11-11
Applicant: 季华实验室
IPC: G01M11/00
Abstract: 本申请公开了一种喷嘴状态检测装置、方法、设备、存储介质和程序产品，涉及喷墨打印的技术领域，在本申请中，沿光线路径依次设置的相机、第一镜以及第二镜，通过相机、第一镜、第二镜以及对应的微定位台的配合，采集喷头喷出的墨滴在飞行过程中的墨滴图像，由墨滴图像分析得到喷嘴状态，以此完成喷嘴状态的检测。其中，将第二镜作为扫描镜，利用第二镜的转动扩大相机的视场，实现对喷嘴状态的快速全面检查，大大缩短了检测时间；相机采用高分辨率的高精度相机，且对相机和第二镜位置适时精确调整，整体提高了喷嘴状态检测的速度和精度。
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公开(公告)号：CN118915829A
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN202411390261.9
申请日：2024-10-08
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请公开了一种气流均匀化方法、装置、设备、存储介质和程序产品，涉及真空腔体应用的技术领域，包括：通过在目标腔体内设置一格栅阵列，使用格栅阵列在不同开度下的压强分布，表征在格栅阵列处的气流均匀或湍流，以此进一步通过调整格栅阵列的开度，使得格栅阵列处的气流均匀化。相较于常规手段，本申请的气流均匀化方法无需改进腔体表面质量，无需优化腔体内部结构，也无需使用蜂窝芯结构，仅需要增加一格栅阵列即可，效率高、成本低、效果显著，可适用于复杂的腔体内部结构和非线性抽真空过程。
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公开(公告)号：CN118915829B
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202411390261.9
申请日：2024-10-08
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请公开了一种气流均匀化方法、装置、设备、存储介质和程序产品，涉及真空腔体应用的技术领域，包括：通过在目标腔体内设置一格栅阵列，使用格栅阵列在不同开度下的压强分布，表征在格栅阵列处的气流均匀或湍流，以此进一步通过调整格栅阵列的开度，使得格栅阵列处的气流均匀化。相较于常规手段，本申请的气流均匀化方法无需改进腔体表面质量，无需优化腔体内部结构，也无需使用蜂窝芯结构，仅需要增加一格栅阵列即可，效率高、成本低、效果显著，可适用于复杂的腔体内部结构和非线性抽真空过程。
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