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公开(公告)号：CN119058253B
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202411570527.8
申请日：2024-11-06
Applicant: 季华实验室
IPC: B41J29/393 , B41J2/11 , H10K71/13 , H10K71/40
Abstract: 本申请公开了一种OLED喷墨打印薄膜高精度成膜一致性控制方法，涉及喷墨打印的技术领域，包括：在本申请中，提出一种OLED喷墨打印薄膜高精度成膜一致性控制方法，尤其适用于大面积显示器制造中的一致性薄膜成膜。首先，根据基板单子像素表面形貌数据和墨水雾化特性参数，得到基板上均匀成膜的湿膜；然后，通过结合宏观腔体物理场仿真分析以及微观子像素槽内湿膜固化仿真分析，确定一致性固化成膜的工艺参数，并根据该工艺参数对基板上均匀成膜的湿膜进行干燥固化，得到目标干膜。以此，参考对宏观腔体物理场以及微观子像素槽内湿膜固化进行分析得到的工艺参数，对均匀成膜的湿膜进行干燥固化，得到成膜厚度一致、均匀成膜的目标干膜。
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公开(公告)号：CN119058253A
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN202411570527.8
申请日：2024-11-06
Applicant: 季华实验室
IPC: B41J29/393 , B41J2/11 , H10K71/13 , H10K71/40
Abstract: 本申请公开了一种OLED喷墨打印薄膜高精度成膜一致性控制方法，涉及喷墨打印的技术领域，包括：在本申请中，提出一种OLED喷墨打印薄膜高精度成膜一致性控制方法，尤其适用于大面积显示器制造中的一致性薄膜成膜。首先，根据基板单子像素表面形貌数据和墨水雾化特性参数，得到基板上均匀成膜的湿膜；然后，通过结合宏观腔体物理场仿真分析以及微观子像素槽内湿膜固化仿真分析，确定一致性固化成膜的工艺参数，并根据该工艺参数对基板上均匀成膜的湿膜进行干燥固化，得到目标干膜。以此，参考对宏观腔体物理场以及微观子像素槽内湿膜固化进行分析得到的工艺参数，对均匀成膜的湿膜进行干燥固化，得到成膜厚度一致、均匀成膜的目标干膜。
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公开(公告)号：CN115817047B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN202310155863.5
申请日：2023-02-23
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及OLED喷墨打印技术领域，公开了一种OLED像素层喷印落点位置规划与喷印控制方法。该方法获取墨水特性和打印基板特性；基于墨水特性和打印基板特性，对打印基板像素槽进行划分，得到划分区域；基于划分区域，生成打印点位；确定打印点位的打印喷嘴标识；根据打印点位、打印点位的打印喷嘴标识以及预设打印方向进行打印。整个方案基于多维度的打印相关属性，对打印基板的像素槽进行划分，基于划分区域来生成打印点位，相比传统的基于墨滴体积得到的打印点位更加准确，确定打印点位对应的喷嘴标识，精确控制每个打印喷嘴，根据精确的打印点位以及打印点位的对应的打印喷嘴标识以预设打印方向进行打印，可以显著提高打印的准确性。
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公开(公告)号：CN115384189B
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202211330681.9
申请日：2022-10-28
Applicant: 季华实验室
IPC: B41J2/01 , B41J29/393 , B41J11/00
Abstract: 本发明涉及喷墨打印性能检测的技术领域，公开了一种喷头墨滴落点观测与统计设备及方法。所述喷头墨滴落点观测与统计设备包括：基片、传送装置、检测装置和清洁装置，所述基片上设有测试图形，用于记录墨滴落点的位置；所述传送装置包括驱动机构、第一吸附平台、第二吸附平台和首尾相接的传送结构，所述传送结构设置于所述驱动机构上，通过所述驱动机构带动所述传送结构运动，所述基片设置在所述传送结构上，所述第一吸附平台和第二吸附平台设置于所述传送结构背向所述基片一侧，所述第一吸附平台和第二吸附平台用于吸附固定所述基片。本方案具有在长时间不更换最小基片的情况下，长时间地采集墨滴落点数据，对喷头性能进行测评的优点。
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公开(公告)号：CN119816094A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202510291340.2
申请日：2025-03-12
Applicant: 季华实验室
IPC: H10K50/12 , C07F5/02 , H10K85/30 , H10K85/60 , H10K101/20
Abstract: 本发明属于电致发光领域，公开了一种有机电致发光器件、显示装置。该硼氮化合物的结构如式I所示：#imgabs0#式I；由特定原料通过硼化扣环反应、硼脂化反应、铃木偶联反应等过程制得。本发明提出的新型硼氮化合物可应用于溶液加工OLED工艺中作为窄光谱发光材料，其多发光核心与桥连基团的引入有利于实现材料发射峰位的调控，使本发明的材料表现出实际应用所需的绿光；基于该硼氮化合物的成膜性能获得了提升，形成的发光层薄膜具有更高的水平偶极取向性能，有利于提升器件效率；同时，基于该硼氮化合物的发光器件在色纯度方面有明显提升，而且浓度依赖性较弱，可以提升工艺窗口。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115817047A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202310155863.5
申请日：2023-02-23
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请涉及OLED喷墨打印技术领域，公开了一种OLED像素层喷印落点位置规划与喷印控制方法。该方法获取墨水特性和打印基板特性；基于墨水特性和打印基板特性，对打印基板像素槽进行划分，得到划分区域；基于划分区域，生成打印点位；确定打印点位的打印喷嘴标识；根据打印点位、打印点位的打印喷嘴标识以及预设打印方向进行打印。整个方案基于多维度的打印相关属性，对打印基板的像素槽进行划分，基于划分区域来生成打印点位，相比传统的基于墨滴体积得到的打印点位更加准确，确定打印点位对应的喷嘴标识，精确控制每个打印喷嘴，根据精确的打印点位以及打印点位的对应的打印喷嘴标识以预设打印方向进行打印，可以显著提高打印的准确性。
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公开(公告)号：CN115593115A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202211496380.3
申请日：2022-11-28
Applicant: 季华实验室(CN)
Abstract: 本发明提出一种打印喷头排泡方法及装置、计算机可读存储介质，涉及OLED打印技术领域，打印喷头排泡方法包括定义喷嘴内的气泡状态；对气泡状态进行预处理，并获取与气泡状态对应的预设打印参数以及预设排泡参数；将预设打印参数、预设排泡参数及气泡状态一一映射并存储在数据库中；检测喷嘴的第一打印参数；根据第一打印参数以及预设打印参数确定气泡状态；根据气泡状态以及预设排泡参数确定喷嘴的排泡参数；控制喷嘴以排泡参数进行排泡。本发明技术方案定义气泡状态并预处理后生成数据库，在对喷嘴进行排泡时，则只需要检测喷嘴的第一打印参数，确定喷嘴的排泡参数，控制喷嘴按照排泡参数进行排泡。提高了排泡效率。
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公开(公告)号：CN119734532A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202411912878.2
申请日：2024-12-24
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于打印机领域，具体公开了一种喷墨打印机墨水过滤装置、打印机、供墨系统及使用方法，该喷墨打印机墨水过滤装置有上盖(11)、第一过滤组件(12)、第二过滤组件(13)、第三过滤组件(14)、底座(15)、连接组件(16)和外壳(17)组成，还提供了一种包括此喷墨打印机墨水过滤装置的打印机，以及供墨系统及其使用方法。本申请所提供的喷墨打印机墨水过滤装置结构可靠，可根据实际需求进行不同精度的过滤组件组合调整，该过滤结构还具备滤泡功能，有利于打印品质的提高，同时采用耐墨水腐蚀材料制作，可适用墨水广泛。
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公开(公告)号：CN119459138A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202411893670.0
申请日：2024-12-20
Applicant: 季华实验室
IPC: B41J2/175
Abstract: 本申请公开了一种墨路系统及墨路气压控制方法，其包括墨瓶、墨管和气压调节组件；所述墨瓶包括瓶体，所述瓶体设有内腔；所述墨瓶为两个，两个所述墨瓶通过所述墨管连通；所述气压调节组件为两个，且两个所述气压调节组件分别对应设置在两个所述墨瓶上，通过在墨瓶上分别设置气压调节组件，进而能够实现两个瓶内的压力控制，为循环式喷头提供稳定的、持续的、高精度的墨水流，结构简单，进而保证墨水流动的流速精度，当面对泵产生的震荡，气压控制带来的震荡等，也能够实现轻松控制。
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公开(公告)号：CN115384189A
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202211330681.9
申请日：2022-10-28
Applicant: 季华实验室
IPC: B41J2/01 , B41J29/393 , B41J11/00
Abstract: 本发明涉及喷墨打印性能检测的技术领域，公开了一种喷头墨滴落点观测与统计设备及方法。所述喷头墨滴落点观测与统计设备包括：基片、传送装置、检测装置和清洁装置，所述基片上设有测试图形，用于记录墨滴落点的位置；所述传送装置包括驱动机构、第一吸附平台、第二吸附平台和首尾相接的传送结构，所述传送结构设置于所述驱动机构上，通过所述驱动机构带动所述传送结构运动，所述基片设置在所述传送结构上，所述第一吸附平台和第二吸附平台设置于所述传送结构背向所述基片一侧，所述第一吸附平台和第二吸附平台用于吸附固定所述基片。本方案具有在长时间不更换最小基片的情况下，长时间地采集墨滴落点数据，对喷头性能进行测评的优点。
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