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公开(公告)号：CN111647859B
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202010485269.9
申请日：2020-06-01
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种还原性气氛中Zr‑Ti‑B‑N纳米复合涂层的制备工艺，属于涂层制备技术领域。采用高功率脉冲和脉冲直流复合磁控溅射技术在基体上沉积Zr‑Ti‑B‑N纳米复合涂层。为提高涂层与基体的结合力，镀膜前先通入Ar气，利用电弧离子镀Cr靶对基体表面进行离子轰击清洗，然后通入N2+H2的混合气体，沉积CrN过渡层。之后关闭Cr靶，依次将TiB2靶和ZrB2靶连接到高功率脉冲磁控溅射阴极和脉冲直流磁控溅射阴极，并在Ar、N2和H2的混合气氛中起辉，开始沉积Zr‑Ti‑B‑N涂层。本发明制备的纳米复合涂层具有较高的硬度和弹性模量，良好的耐磨性能，且组织结构致密、涂层与基体间的结合力强。
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公开(公告)号：CN111500990B
公开(公告)日：2022-05-24
申请号：CN202010484581.6
申请日：2020-06-01
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种Zr‑Ti‑B‑N纳米复合涂层及其制备方法，属于复合涂层及其制备技术领域。该复合涂层包括非晶BN相、ZrN晶相、TiN晶相、ZrB2晶相和Ti2N晶相，其中ZrB2相沿(001)晶面、Ti2N相沿(110)晶面择优生长。采用高功率脉冲和脉冲直流复合磁控溅射技术在基体上沉积Zr‑Ti‑B‑N纳米复合涂层，TiB2靶和ZrB2靶分别连接到高功率脉冲磁控溅射阴极和脉冲直流磁控溅射阴极，在Ar、N2和H2的混合气氛中沉积Zr‑Ti‑B‑N涂层。本发明的纳米复合涂层具有较高的硬度和弹性模量，良好的耐磨性能，且涂层组织结构致密、涂层与基体间的结合力强。
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公开(公告)号：CN111500990A
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN202010484581.6
申请日：2020-06-01
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种Zr-Ti-B-N纳米复合涂层及其制备方法，属于复合涂层及其制备技术领域。该复合涂层包括非晶BN相、ZrN晶相、TiN晶相、ZrB2晶相和Ti2N晶相，其中ZrB2相沿(001)晶面、Ti2N相沿(110)晶面择优生长。采用高功率脉冲和脉冲直流复合磁控溅射技术在基体上沉积Zr-Ti-B-N纳米复合涂层，TiB2靶和ZrB2靶分别连接到高功率脉冲磁控溅射阴极和脉冲直流磁控溅射阴极，在Ar、N2和H2的混合气氛中沉积Zr-Ti-B-N涂层。本发明的纳米复合涂层具有较高的硬度和弹性模量，良好的耐磨性能，且涂层组织结构致密、涂层与基体间的结合力强。
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公开(公告)号：CN111647859A
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN202010485269.9
申请日：2020-06-01
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种还原性气氛中Zr-Ti-B-N纳米复合涂层的制备工艺，属于涂层制备技术领域。采用高功率脉冲和脉冲直流复合磁控溅射技术在基体上沉积Zr-Ti-B-N纳米复合涂层。为提高涂层与基体的结合力，镀膜前先通入Ar气，利用电弧离子镀Cr靶对基体表面进行离子轰击清洗，然后通入N2+H2的混合气体，沉积CrN过渡层。之后关闭Cr靶，依次将TiB2靶和ZrB2靶连接到高功率脉冲磁控溅射阴极和脉冲直流磁控溅射阴极，并在Ar、N2和H2的混合气氛中起辉，开始沉积Zr-Ti-B-N涂层。本发明制备的纳米复合涂层具有较高的硬度和弹性模量，良好的耐磨性能，且组织结构致密、涂层与基体间的结合力强。
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