-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118726972B
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202411210260.1
申请日：2024-08-30
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种带有氧调控高强韧自润滑涂层的材料及制备方法和应用。本发明的制备方法，包括以下步骤：步骤（1）制备涂层粉末；所述涂层粉末包括CuSn12Ni2和Cu2O；步骤（2）在超声作用下，采用激光熔覆的方式使涂层粉末在基体表面制备出涂层，得到基体‑涂层复合材料，即带有氧调控高强韧自润滑涂层的材料；所述基体为Al合金。本发明通过特定的CuSn12Ni2和Cu2O的配比、激光工艺参数与超声功率的合理调控实现氧化物的分散均匀化和转化比例，获得弥散分布硬质颗粒相和固体润滑相的共同强化的复合涂层，实现减摩耐磨一体化。
-
公开(公告)号：CN119900024A
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN202510027326.1
申请日：2025-01-08
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种高强减摩耐磨耐蚀的涂层、金属复合材料及制备方法和应用。其中，涂层的制备方法包括：步骤(1)先制备出激光熔覆层；激光熔覆层为以FCC相为主的共晶高熵合金；步骤(2)对激光熔覆层，先进行凹织构加工，再进行凸织构的加工，得到高强减摩耐磨耐蚀的涂层；其中，凹织构加工是在超声辅助下进行的。本发明通过超声辅助进行凹织构加工，利用超声可以改善凹织构加工中涂层内部温度场的特点从而增加BCC含量，进一步的，通过凸织构的加工的热输入进一步诱导BCC的形成。本发明还发现在激光熔覆层上依次进行凹织构加工和凸织构加工两者具有协同作用，制备的涂层具有优异的强度、耐腐蚀性、硬度、耐磨以及减摩性能。
-
公开(公告)号：CN118726972A
公开(公告)日：2024-10-01
申请号：CN202411210260.1
申请日：2024-08-30
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种带有氧调控高强韧自润滑涂层的材料及制备方法和应用。本发明的制备方法，包括以下步骤：步骤（1）制备涂层粉末；所述涂层粉末包括CuSn12Ni2和Cu2O；步骤（2）在超声作用下，采用激光熔覆的方式使涂层粉末在基体表面制备出涂层，得到基体‑涂层复合材料，即带有氧调控高强韧自润滑涂层的材料；所述基体为Al合金。本发明通过特定的CuSn12Ni2和Cu2O的配比、激光工艺参数与超声功率的合理调控实现氧化物的分散均匀化和转化比例，获得弥散分布硬质颗粒相和固体润滑相的共同强化的复合涂层，实现减摩耐磨一体化。
-
公开(公告)号：CN118685770B
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202411162914.8
申请日：2024-08-23
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种导电性增强的载流摩擦副涂层材料及制备方法和应用。本发明的制备方法，包括以下步骤：将高硬高耐磨的涂层打磨抛光后和碳滑板进行载流摩擦磨损后，使得碳元素嵌入到高硬高耐磨的涂层裂纹中，从而得到导电性增强的载流摩擦副涂层材料。本发明采用特定的工艺参数对高硬高耐磨的涂层和进行碳滑板进行载流摩擦磨损，在载流摩擦磨损过程中高硬高耐磨的涂层会不断产生裂纹，同时碳滑板中的碳元素会进入到高硬度涂层的裂纹中，随着磨损的继续，裂纹不断产生，裂纹中会充满大量的碳元素使得涂层的导电性不断上高，且由于碳的填充，对涂层裂纹也起到了一定的修复作用，使得涂层的整体性能有所提高。
-
公开(公告)号：CN118685770A
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN202411162914.8
申请日：2024-08-23
Applicant: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
Abstract: 本发明公开了一种导电性增强的载流摩擦副涂层材料及制备方法和应用。本发明的制备方法，包括以下步骤：将高硬高耐磨的涂层打磨抛光后和碳滑板进行载流摩擦磨损后，使得碳元素嵌入到高硬高耐磨的涂层裂纹中，从而得到导电性增强的载流摩擦副涂层材料。本发明采用特定的工艺参数对高硬高耐磨的涂层和进行碳滑板进行载流摩擦磨损，在载流摩擦磨损过程中高硬高耐磨的涂层会不断产生裂纹，同时碳滑板中的碳元素会进入到高硬度涂层的裂纹中，随着磨损的继续，裂纹不断产生，裂纹中会充满大量的碳元素使得涂层的导电性不断上高，且由于碳的填充，对涂层裂纹也起到了一定的修复作用，使得涂层的整体性能有所提高。
-
-
-
-
Search Results
5
records
(took 0.034 seconds)
